公开(公告)号：CN1947216B

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN200580013389.2

申请日：2005-04-29

申请人： 艾克塞利斯技术公司

发明人： D·费里斯 ,  A·斯里瓦斯塔瓦 ,  M·滕

IPC分类号： H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32623 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32633

摘要： 等离子体加工系统包括至少一个多片挡板组件。多片挡板组件一般包括至少一个环形的环部件，具有开口和插入部分，插入部分的尺寸使其可以安装在该开口内。各片挡板可以由陶瓷材料制成。使等离子体加工过程中挡板内热梯度所造成的影响减到最少。

公开(公告)号：CN1947216A

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN200580013389.2

申请日：2005-04-29

申请人： 艾克塞利斯技术公司

发明人： D·费里斯 ,  A·斯里瓦斯塔瓦 ,  M·滕

IPC分类号： H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32623 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32633

摘要： 等离子体加工系统包括至少一个多片挡板组件。多片挡板组件一般包括至少一个环形的环部件，具有开口和插入部分，插入部分的尺寸使其可以安装在该开口内。各片挡板可以由陶瓷材料制成。使等离子体加工过程中挡板内热梯度所造成的影响减到最少。

公开(公告)号：CN1628368A

公开(公告)日：2005-06-15

申请号：CN03803423.9

申请日：2003-02-10

申请人： 艾克塞利斯技术公司

发明人： D·金纳德 ,  D·费里斯

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01J37/32 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50

CPC分类号： C23C16/45504 ,  C23C16/455

摘要： 一种反应器组件和用于处理衬底的处理方法包括基座单元、卡盘组件、入口歧管组件和排气歧管组件。入口歧管组件与处理室的第一开口是流体连通的，其中入口歧管组件包括适于横向拉长进入处理室的气体和/或反应物流的流体成形部分。排气歧管组件与处理室的第二开口是流体连通的并与入口歧管组件径向相对。该处理方法包括在与衬底表面大致共面的方向使气体和/或反应物流进反应器组件的处理室，提供提高的均匀性和增加的反应性。