公开(公告)号：CN106298461B

公开(公告)日：2020-07-28

申请号：CN201510258199.2

申请日：2015-05-20

申请人： 联华电子股份有限公司

发明人： 陈育德 ,  刘恩铨 ,  曾嘉勋 ,  苏信逢 ,  洪钰婷 ,  蔡孟霖

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L29/06

摘要： 本发明公开一种制作不连续直线图案的方法与不连续直线图案结构。该方法包含在基底上形成DSA材料层，在相分离制作工艺后形成周期性排列图案，其包括交替排列的多个第一聚合物结构与第二聚合物结构。然后在DSA材料层上形成第一掩模覆盖周期性排列图案的第一部分，然后移除被第一掩模曝露的第一聚合物结构，再移除第一掩模。接着形成第二掩模覆盖周期性排列图案的第二部分，其中第一与第二部分之间具有间隙。然后移除被第二掩模所暴露的第二聚合物结构，最后移除第二掩模。所留下的部分第一聚合物结构与部分第二聚合物结构彼此不互相连接。

公开(公告)号：CN106298461A

公开(公告)日：2017-01-04

申请号：CN201510258199.2

申请日：2015-05-20

申请人： 联华电子股份有限公司

发明人： 陈育德 ,  刘恩铨 ,  曾嘉勋 ,  苏信逢 ,  洪钰婷 ,  蔡孟霖

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L29/06

摘要： 本发明公开一种制作不连续直线图案的方法与不连续直线图案结构。该方法包含在基底上形成DSA材料层，在相分离制作工艺后形成周期性排列图案，其包括交替排列的多个第一聚合物结构与第二聚合物结构。然后在DSA材料层上形成第一掩模覆盖周期性排列图案的第一部分，然后移除被第一掩模曝露的第一聚合物结构，再移除第一掩模。接着形成第二掩模覆盖周期性排列图案的第二部分，其中第一与第二部分之间具有间隙。然后移除被第二掩模所暴露的第二聚合物结构，最后移除第二掩模。所留下的部分第一聚合物结构与部分第二聚合物结构彼此不互相连接。