公开(公告)号：CN104299966A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201310295934.8

申请日：2013-07-15

Applicant: 联华电子股份有限公司

Inventor： 温詠儒 ,  王畅资 ,  唐天浩

IPC: H01L27/02 ,  H01L29/78

Abstract: 静电放电保护结构，包括基底、接点区、第一金属氧化物半导体元件、第二金属氧化物半导体元件、第一掺杂区以及第二掺杂区。接点区位于基底中。第一金属氧化物半导体元件包括具有第一导电型的第一漏极区，位于基底中。第二金属氧化物半导体元件包括具有第一导电型的第二漏极区，位于基底中。第一漏极区较第二漏极区接近接点区。第一和第二掺杂区均具有第二导电型，分别位于对应的第一和第二漏极区下方。第一掺杂区的面积和/或掺杂浓度大于第二掺杂区的面积和/或掺杂浓度。通过改变掺杂区的面积/掺杂浓度，可修正掺杂区与接点区距离不同造成的差异，使不同区域各寄生双极性晶体管（BJT）的崩溃电压大致相同，便可使各BJT导通时间几乎一致。

公开(公告)号：CN104299966B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201310295934.8

申请日：2013-07-15

Applicant: 联华电子股份有限公司

Inventor： 温詠儒 ,  王畅资 ,  唐天浩

IPC: H01L27/02 ,  H01L29/78

Abstract: 静电放电保护结构，包括基底、接点区、第一金属氧化物半导体元件、第二金属氧化物半导体元件、第一掺杂区以及第二掺杂区。接点区位于基底中。第一金属氧化物半导体元件包括具有第一导电型的第一漏极区，位于基底中。第二金属氧化物半导体元件包括具有第一导电型的第二漏极区，位于基底中。第一漏极区较第二漏极区接近接点区。第一和第二掺杂区均具有第二导电型，分别位于对应的第一和第二漏极区下方。第一掺杂区的面积和/或掺杂浓度大于第二掺杂区的面积和/或掺杂浓度。通过改变掺杂区的面积/掺杂浓度，可修正掺杂区与接点区距离不同造成的差异，使不同区域各寄生双极性晶体管（BJT）的崩溃电压大致相同，便可使各BJT导通时间几乎一致。