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公开(公告)号:CN101970354B
公开(公告)日:2017-10-13
申请号:CN200980108505.7
申请日:2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193
CPC classification number: C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅,该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成,这些二氧化硅具有:CTAB比表面积(SCTAB)为60‑400m2/g,在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为:d50(nm)>(6214/SCTAB(m2/g))+23,孔体积分布为:V(d5‑d50)/V(d5‑d100)>0.906‑(0.0013xSCTAB(m2/g)),以及孔尺寸分布为:Mode(nm)>(4166/SCTAB(m2/g))‑9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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公开(公告)号:CN101970354A
公开(公告)日:2011-02-09
申请号:CN200980108505.7
申请日:2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193
CPC classification number: C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅,该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成,这些二氧化硅具有:CTAB比表面积(SCTAB)为60-400m2/g,在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为:d50(nm)>(6214/SCTAB(m2/g))+23,孔体积分布为:V(d5-d50)/V(d5-d100)>0.906-(0.0013xSCTAB(m2/g)),以及孔尺寸分布为:Mode(nm)>(4166/SCTAB(m2/g))-9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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公开(公告)号:CN102482451B
公开(公告)日:2016-06-22
申请号:CN201080028343.9
申请日:2010-06-02
Applicant: 罗地亚管理公司
CPC classification number: C08K5/5425 , C08K3/36 , C08K5/544 , C08L9/00 , Y10T428/139
Abstract: 本发明涉及至少一种官能化的有机基硅化合物在包含异戊二烯弹性体和增强填料的无机填料的弹性体组合物中作为无机填料-弹性体偶联剂的用途,其特征在于所述化合物选自包含至少一个C=C或C=N双键并且与异戊二烯单元按照电环化类型的反应进行反应的官能化的有机基硅化合物,并且包含至少一个C=C或C=N双键并且与异戊二烯单元按照如下反应进行反应的官能化的有机基硅化合物,所述反应是[2+1]、[2+2]、[3+2]或第尔斯-阿尔德[4+2]类型的环化加成反应或者与异戊二烯单元与C=C-C=O或N=N官能团之间的烯合成反应不同的烯合成反应。本发明还涉及所获得的弹性体组合物以及由所述组合物制造的制品。
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公开(公告)号:CN108002398B
公开(公告)日:2021-12-28
申请号:CN201710996971.X
申请日:2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193 , C01B33/12
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅,该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成,这些二氧化硅具有:CTAB比表面积(SCTAB)为60‑400m2/g,在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为:d50(nm)>(6214/SCTAB(m2/g))+23,孔体积分布为:V(d5‑d50)/V(d5‑d100)>0.906–(0.0013x SCTAB(m2/g)),以及孔尺寸分布为:Mode(nm)>(4166/SCTAB(m2/g))–9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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公开(公告)号:CN108002398A
公开(公告)日:2018-05-08
申请号:CN201710996971.X
申请日:2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193 , C01B33/12
CPC classification number: C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅,该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成,这些二氧化硅具有:CTAB比表面积(SCTAB)为60-400m2/g,在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为:d50(nm)>(6214/SCTAB(m2/g))+23,孔体积分布为:V(d5-d50)/V(d5-d100)>0.906–(0.0013x SCTAB(m2/g)),以及孔尺寸分布为:Mode(nm)>(4166/SCTAB(m2/g))–9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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公开(公告)号:CN102869521A
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN201180016558.3
申请日:2011-04-01
CPC classification number: C08K3/36 , B60C1/00 , C01P2002/80 , C01P2004/61 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C08L21/00 , C09C1/3081
Abstract: 本发明涉及包含铝的沉淀二氧化硅作为增强无机填料以及3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷作为无机填料/弹性体偶联剂在包含异戊二烯弹性体的弹性体组合物中的联合使用,所述沉淀二氧化硅的铝含量高于0.5wt%。本发明还涉及获得的弹性体组合物以及由所述组合物生产的制品。
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公开(公告)号:CN102482451A
公开(公告)日:2012-05-30
申请号:CN201080028343.9
申请日:2010-06-02
Applicant: 罗地亚管理公司
CPC classification number: C08K5/5425 , C08K3/36 , C08K5/544 , C08L9/00 , Y10T428/139
Abstract: 本发明涉及至少一种官能化的有机基硅化合物在包含异戊二烯弹性体和增强填料的无机填料的弹性体组合物中作为无机填料-弹性体偶联剂的用途,其特征在于所述化合物选自包含至少一个C=C或C=N双键并且与异戊二烯单元按照电环化类型的反应进行反应的官能化的有机基硅化合物,并且包含至少一个C=C或C=N双键并且与异戊二烯单元按照如下反应进行反应的官能化的有机基硅化合物,所述反应是[2+1]、[2+2]、[3+2]或第尔斯-阿尔德[4+2]类型的环化加成反应或者与异戊二烯单元与C=C-C=O或N=N官能团之间的烯合成反应不同的烯合成反应。本发明还涉及所获得的弹性体组合物以及由所述组合物制造的制品。
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