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公开(公告)号：CN103702744B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201280012236.6
申请日：2012-02-28
Applicant: 罗地亚管理公司 , 伊利可创镁业有限公司
CPC classification number: B01D53/9418 , B01D2251/2062 , B01D2251/2067 , B01D2255/2065 , B01D2255/207 , B01D2255/20715 , B01D2255/50 , B01D2258/012 , B01J21/066 , B01J23/10 , B01J23/20 , B01J29/06 , B01J29/48 , B01J29/78 , B01J29/85 , B01J35/0006 , B01J35/1014 , B01J37/0009 , B01J37/0203 , B01J37/04 , B01J2229/16 , B01J2229/32 , B01J2229/36 , B01J2229/37 , F01N3/206 , F01N3/2066 , F01N2610/02 , Y02A50/2325 , Y02T10/24
Abstract: 本发明涉及用于处理含氮氧化物(NOx)的气体的方法，在该方法中通过含氮还原剂进行NOx的还原反应，并且其特征在于使用催化体系作为这种还原反应的催化剂，该催化体系包含基于锆、铈和铌的组合物，具有以氧化物表示的下述质量含量：铈氧化物：10％-50％，铌氧化物：5％-20％，其余为锆氧化物。
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公开(公告)号：CN108002398B
公开(公告)日：2021-12-28
申请号：CN201710996971.X
申请日：2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193 , C01B33/12
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅，该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成，这些二氧化硅具有：CTAB比表面积(SCTAB)为60‑400m2/g，在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为：d50(nm)>(6214/SCTAB(m2/g))+23，孔体积分布为：V(d5‑d50)/V(d5‑d100)>0.906–(0.0013x SCTAB(m2/g))，以及孔尺寸分布为：Mode(nm)>(4166/SCTAB(m2/g))–9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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公开(公告)号：CN108002398A
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201710996971.X
申请日：2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193 , C01B33/12
CPC classification number: C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅，该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成，这些二氧化硅具有：CTAB比表面积(SCTAB)为60-400m2/g，在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为：d50(nm)>(6214/SCTAB(m2/g))+23，孔体积分布为：V(d5-d50)/V(d5-d100)>0.906–(0.0013x SCTAB(m2/g))，以及孔尺寸分布为：Mode(nm)>(4166/SCTAB(m2/g))–9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101970354B
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN200980108505.7
申请日：2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193
CPC classification number: C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅，该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成，这些二氧化硅具有：CTAB比表面积(SCTAB)为60‑400m2/g，在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为：d50(nm)＞(6214/SCTAB(m2/g))+23，孔体积分布为：V(d5‑d50)/V(d5‑d100)＞0.906‑(0.0013xSCTAB(m2/g))，以及孔尺寸分布为：Mode(nm)＞(4166/SCTAB(m2/g))‑9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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公开(公告)号：CN102791632B
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201180005758.9
申请日：2011-01-10
Applicant: 罗地亚管理公司
CPC classification number: C01G25/00 , B01D53/8603 , B01D53/8612 , B01D53/94 , B01D53/944 , B01D2255/2061 , B01D2255/2063 , B01D2255/2066 , B01D2255/2068 , B01D2255/407 , B01J21/066 , B01J23/10 , B01J35/023 , B01J35/1014 , B01J37/009 , B01J37/031 , B01J37/038 , C01G25/02 , C01P2002/50 , C01P2002/88 , C01P2004/62 , C01P2006/13 , C01P2006/32
Abstract: 本发明的组合物基于锆、铈和至少一种除铈之外的稀土元素的氧化物，其中铈氧化物的含量为至多50%质量，并且在1000°C下煅烧6小时之后，该组合物具有至多500°C的最大还原性温度和至少45m2/g的比表面积。该组合物通过如下方法制备，在该方法中，使锆、铈和其它稀土元素的化合物的混合物与碱性化合物连续反应，其中停留时间为至多100毫秒；沉淀物被加热然后在煅烧之前与表面活性剂接触。
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公开(公告)号：CN103702744A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201280012236.6
申请日：2012-02-28
Applicant: 罗地亚管理公司 , 伊利可创镁业有限公司
CPC classification number: B01D53/9418 , B01D2251/2062 , B01D2251/2067 , B01D2255/2065 , B01D2255/207 , B01D2255/20715 , B01D2255/50 , B01D2258/012 , B01J21/066 , B01J23/10 , B01J23/20 , B01J29/06 , B01J29/48 , B01J29/78 , B01J29/85 , B01J35/0006 , B01J35/1014 , B01J37/0009 , B01J37/0203 , B01J37/04 , B01J2229/16 , B01J2229/32 , B01J2229/36 , B01J2229/37 , F01N3/206 , F01N3/2066 , F01N2610/02 , Y02A50/2325 , Y02T10/24
Abstract: 本发明涉及用于处理含氮氧化物(NOx)的气体的方法，在该方法中通过含氮还原剂进行NOx的还原反应，并且其特征在于使用催化体系作为这种还原反应的催化剂，该催化体系包含基于锆、铈和铌的组合物，具有以氧化物表示的下述质量含量：铈氧化物：10％-50％，铌氧化物：5％-20％，其余为锆氧化物。
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公开(公告)号：CN102791632A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180005758.9
申请日：2011-01-10
Applicant: 罗地亚管理公司
CPC classification number: C01G25/00 , B01D53/8603 , B01D53/8612 , B01D53/94 , B01D53/944 , B01D2255/2061 , B01D2255/2063 , B01D2255/2066 , B01D2255/2068 , B01D2255/407 , B01J21/066 , B01J23/10 , B01J35/023 , B01J35/1014 , B01J37/009 , B01J37/031 , B01J37/038 , C01G25/02 , C01P2002/50 , C01P2002/88 , C01P2004/62 , C01P2006/13 , C01P2006/32
Abstract: 本发明的组合物基于锆、铈和至少一种除铈之外的稀土元素的氧化物，其中铈氧化物的含量为至多50%质量，并且在1000℃下煅烧6小时之后，该组合物具有至多500℃的最大还原性温度和至少45m2/g的比表面积。该组合物通过如下方法制备，在该方法中，使锆、铈和其它稀土元素的化合物的混合物与碱性化合物连续反应，其中停留时间为至多100毫秒；沉淀物被加热然后在煅烧之前与表面活性剂接触。
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公开(公告)号：CN101970354A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980108505.7
申请日：2009-03-09
Applicant: 罗地亚管理公司
IPC: C01B33/193
CPC classification number: C01B33/193 , C01B33/12 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及沉淀二氧化硅的制备方法以及沉淀二氧化硅，该沉淀二氧化硅由在其表面上存在小二氧化硅初级粒子的大二氧化硅初级粒子的聚集体形成，这些二氧化硅具有：CTAB比表面积(SCTAB)为60-400m2/g，在超声解附聚之后通过XDC粒度测量法测量的聚集体的d50中位尺寸为：d50(nm)＞(6214/SCTAB(m2/g))+23，孔体积分布为：V(d5-d50)/V(d5-d100)＞0.906-(0.0013xSCTAB(m2/g))，以及孔尺寸分布为：Mode(nm)＞(4166/SCTAB(m2/g))-9.2。本发明还涉及这些二氧化硅作为聚合物的增强填料的用途。
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