公开(公告)号：CN118074648A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202311511261.5

申请日：2023-11-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 魏成硕 ,  崔伦硕 ,  姜汉林

IPC: H03H7/38 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种匹配网络模块和一种基底处理设备，其中，所述匹配网络模块包括：多个外壳，个体化以减少交叉射频(RF)干扰；多个匹配网络，分别安装在所述多个外壳中，以在多个RF发生器和等离子室之间独立地执行阻抗匹配；以及公共输出杆，将所述多个匹配网络的输出端子彼此连接。

公开(公告)号：CN118197951A

公开(公告)日：2024-06-14

申请号：CN202311389284.3

申请日：2023-10-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  崔伦硕 ,  魏成硕

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可以不变更设备的设计而使照射到处理空间的微波的模式变换的使用微波的热处理装置及其工作方法。根据本发明的一实施例的使用微波的热处理装置包括：腔室，形成基板的热处理空间，并在内壁附着有电泳膜；基板支承单元，位于所述热处理空间的下方，并支承所述基板；微波单元，位于所述热处理空间的上方，并将通过所述微波的电磁场形成于所述热处理空间；以及控制器，基于工艺条件以及所述基板的尺寸控制所述电泳膜，以控制所述微波的移动路径。

公开(公告)号：CN119905421A

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202411000077.9

申请日：2024-07-24

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 安迎曙 ,  朴相万 ,  姜汉林 ,  金仁会 ,  崔伦硕 ,  魏成硕 ,  姜泰熏

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 公开了一种基板处理装置和一种基板处理方法。该基板处理装置包括：腔室，该腔室包括在其内部限定的处理空间；基板支撑单元，该基板支撑单元被配置为在处理空间中支撑基板；微波单元，该微波单元被配置为向处理空间供应微波；窗口构件，该窗口构件布置在微波单元下方并且被配置为传输从微波单元供应的微波；传热板，该传热板布置在处理空间中以与窗口构件间隔开预定距离，并且被配置为由供应到处理空间的微波进行加热并且将热传递到基板；以及控制器，该控制器被配置为控制微波单元。

公开(公告)号：CN116313718A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202211483502.5

申请日：2022-11-24

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金铉镇 ,  李贞焕 ,  奥格森·加尔斯蒂安 ,  魏成硕 ,  裵珉槿

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明的实施例提供用于迅速的阻抗匹配的阻抗匹配电路及具备其的供电装置以及等离子体处理设备。根据本发明的阻抗匹配电路包括：并联电容器阵列，与生成RF(radio frequency)信号的RF电源并联连接；以及串联电容器阵列，与所述RF电源串联连接，所述并联电容器阵列或者所述串联电容器阵列包括机械式真空可变电容器以及与所述机械式真空可变电容器并联连接的电子式开关电容器模组。