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公开(公告)号：CN114664690A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202111498057.5
申请日：2021-12-09
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：液体供应单元，其用于向基板上供应发光源和/或处理液；和电压施加单元，其用于向被供应所述发光源的基板施加电压。
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