公开(公告)号：CN116031130A

公开(公告)日：2023-04-28

申请号：CN202211327100.6

申请日：2022-10-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李元硕 ,  尹荣培

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  B08B7/00

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理方法。所述基板处理方法包括：通过将过程等离子体传送到腔室的处理空间来处理基板；以及通过将清洁介质供应到定位在所述处理空间下方的所述腔室的排气空间来清洁排气空间。

公开(公告)号：CN114649183A

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202111529819.3

申请日：2021-12-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙亨圭 ,  安宗焕 ,  曺在玄 ,  裴珉槿 ,  O·嘉尔斯蒂安 ,  金东奭 ,  金铉珪 ,  李元硕 ,  金成帝

IPC: H01J37/32

Abstract: 提供了一种支撑单元，所述支撑单元被包括在用于使用等离子体来处理基板的设备中并且被配置为支撑所述基板。所述支撑单元可以包括：电源杆，所述电源杆连接到高频电源；电极板，所述电极板被配置为从所述电源杆接收电力；以及接地环，所述接地环设置为当从顶部观察时围绕所述电极板并且包括要接地的接地环。

公开(公告)号：CN114628215A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202111384124.0

申请日：2021-11-15

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙亨圭 ,  安宗焕 ,  曺在玄 ,  裵珉槿 ,  金东奭 ,  金铉珪 ,  O·嘉尔斯蒂安 ,  李元硕 ,  金成帝

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明构思涉及一种设置在用于使用等离子体处理基板的设备中的基板支撑单元。在一个实施例中，所述基板支撑单元包括：其上放置所述基板的电介质板、设置在所述电介质板下方并具有第一直径的下电极、将RF功率施加到所述下电极并具有第二直径的电源杆、以及设置在所述下电极下方并通过绝缘构件与所述下电极间隔开第一间隙的接地构件，所述接地构件包括板部分，在所述板部分中形成有供所述电源杆所穿过的通孔，其中所述通孔具有第三直径。