公开(公告)号：CN101185030A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018573.0

申请日：2006-03-07

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 鱼东善 ,  吴昌一 ,  金到贤 ,  李镇国 ,  南艾丽娜

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/095

Abstract: 提供了用于平版印刷工艺中的具有抗反射性能的硬掩模组合物，使用该组合物的方法，和通过该方法制造的半导体装置。本发明的抗反射硬掩模组合物包含：a)聚合物组分，其包含第一单体单元和第二单体单元，其中所述第一单体单元和所述第二单体单元均包含芳基，且其中所述第一单体单元和所述第二单体单元中的至少一种包含酚基；b)交联组分；和c)酸性催化剂。

公开(公告)号：CN101185030B

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN200680018573.0

申请日：2006-03-07

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 鱼东善 ,  吴昌一 ,  金到贤 ,  李镇国 ,  南艾丽娜

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/095

Abstract: 提供了用于平版印刷工艺中的具有抗反射性能的硬掩模组合物，使用该组合物的方法，和通过该方法制造的半导体装置。本发明的抗反射硬掩模组合物包含：a)聚合物组分，其包含第一单体单元和第二单体单元，其中所述第一单体单元和所述第二单体单元均包含芳基，且其中所述第一单体单元和所述第二单体单元中的至少一种包含酚基；b)交联组分；和c)酸性催化剂。