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公开(公告)号：CN114600154A
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202080070441.2
申请日：2020-10-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 将经渲染图像与扫描电子显微镜(SEM)图像对准以产生经对准经渲染图像。将参考图像与所述SEM图像对准以产生经对准参考图像。还生成阈值概率图。所述SEM图像及经对准参考图像的动态补偿可产生经校正SEM图像及经校正参考图像。可生成阈值缺陷图且使用基于宽带等离子体的性质过滤所述阈值概率图的缺陷及所述阈值缺陷图的信噪比缺陷以产生所关注缺陷团簇。
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公开(公告)号：CN112789713B
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN201980065115.X
申请日：2019-10-15
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种在半导体晶片缺陷检验系统处执行半导体晶片图像对准的方法。在所述方法中，将半导体晶片装载到所述半导体晶片缺陷检验系统中。针对所述半导体晶片执行预检验对准。在执行所述预检验对准之后，实行第一扫描带以产生所述半导体晶片上的第一区的第一图像。确定所述第一图像中的目标结构相对于已知点的偏移。使用所述偏移针对所述第一图像执行缺陷识别。在实行所述第一扫描带且确定所述偏移之后，实行第二扫描带以产生所述半导体晶片上的第二区的第二图像。在实行所述第二扫描带时，使用所述偏移来执行所述半导体晶片的运行时间对准。
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公开(公告)号：CN109196499B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201780033727.1
申请日：2017-05-31
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： S·巴塔查里亚
IPC: G06F30/20 , G06F113/18
Abstract: 本发明提供一种用于自动产生晶片图像到设计的坐标映射的系统、方法及计算机程序产品。在使用中，晶片的设计由计算机处理器接收。另外，由所述计算机处理器接收由所述设计制造的晶片的图像。此外，由所述计算机处理器自动产生所述设计与所述图像之间的坐标映射。
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公开(公告)号：CN109964116A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780071387.1
申请日：2017-11-30
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本文中描述用于发现掩埋于三维半导体结构内的所关注缺陷DOI及配方优化的方法及系统。通过存储与受测量的所述半导体结构的总深度的一子组相关联的图像而减小经受缺陷发现及验证的半导体晶片的体积。记录与一或多个聚焦平面或聚焦范围处的缺陷位置相关联的图像片块。基于以下各项中的任一者而减少所考虑光学模式的数目：一或多个所测量晶片级缺陷图征与一或多个预期晶片级缺陷图征的比较、所测量缺陷信噪比及无需逆向处理而验证的缺陷。此外，采用经验证缺陷及所记录图像来训练扰乱筛选程序且优化测量配方。将所述经训练扰乱筛选程序应用于缺陷图像以选择最优光学模式来用于生产。
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公开(公告)号：CN109964115A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780068950.X
申请日：2017-11-08
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统及方法。一种系统包含：(若干)计算机子系统，其包含一或多个图像处理组件，其获取由检验子系统针对晶片产生的图像；主用户接口组件，其将针对所述晶片及所述光罩产生的信息提供到用户且接收来自所述用户的指令；及接口组件，其提供所述一或多个图像处理组件与所述主用户接口之间的接口。不同于当前使用的系统，所述一或多个图像处理组件经配置用于通常将重复项缺陷检测算法应用到由所述一或多个图像处理组件获取的所述图像而执行重复项缺陷检测，且所述重复项缺陷检测算法经配置以使用热阈值来检测所述晶片上的缺陷且识别是重复项缺陷的所述缺陷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114600154B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202080070441.2
申请日：2020-10-29
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G06T7/00 , G06V10/764 , G06V10/82 , G06N3/0464 , G06N3/0455 , G06N3/047 , G06N3/048 , G06N3/0475 , G06N3/094
Abstract: 将经渲染图像与扫描电子显微镜(SEM)图像对准以产生经对准经渲染图像。将参考图像与所述SEM图像对准以产生经对准参考图像。还生成阈值概率图。所述SEM图像及经对准参考图像的动态补偿可产生经校正SEM图像及经校正参考图像。可生成阈值缺陷图且使用基于宽带等离子体的性质过滤所述阈值概率图的缺陷及所述阈值缺陷图的信噪比缺陷以产生所关注缺陷团簇。
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公开(公告)号：CN113168695B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN201980079469.X
申请日：2019-12-06
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于缺陷重检及分类的系统。所述系统可包含控制器，其中所述控制器可经配置以接收样品的一或多个训练图像。所述一或多个训练图像包含多个训练缺陷。所述控制器可进一步经配置以将多个差值滤波器应用到所述一或多个训练图像，且接收指示所述多个差值滤波器的至少一部分的差值滤波器有效性度量的分类的信号。所述控制器可进一步经配置以基于所述所接收分类及所述多个训练缺陷的属性而生成深度学习网络分类器。所述控制器可进一步经配置以提取所述深度学习网络分类器的卷积层滤波器，且基于所述所提取的卷积层滤波器而生成一或多个差值滤波器配方。
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公开(公告)号：CN113168695A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079469.X
申请日：2019-12-06
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于缺陷重检及分类的系统。所述系统可包含控制器，其中所述控制器可经配置以接收样品的一或多个训练图像。所述一或多个训练图像包含多个训练缺陷。所述控制器可进一步经配置以将多个差值滤波器应用到所述一或多个训练图像，且接收指示所述多个差值滤波器的至少一部分的差值滤波器有效性度量的分类的信号。所述控制器可进一步经配置以基于所述所接收分类及所述多个训练缺陷的属性而生成深度学习网络分类器。所述控制器可进一步经配置以提取所述深度学习网络分类器的卷积层滤波器，且基于所述所提取的卷积层滤波器而生成一或多个差值滤波器配方。
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公开(公告)号：CN112840205A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201980067471.5
申请日：2019-10-17
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的方法及系统。一个系统包含经配置用于产生样品的基于设计的关注区域的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性，且从由输出获取子系统针对所述多个例子产生的输出确定所述一或多个输出属性。所述计算机子系统进一步经配置用于将所述样品上的所述关注区域的所述多个例子分离成不同关注区域子群组，使得所述不同关注区域子群组具有所述输出属性的统计上不同值且基于所述不同关注区域子群组而选择所述样品的检验配方的参数。
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公开(公告)号：CN109196499A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033727.1
申请日：2017-05-31
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： S·巴塔查里亚
IPC: G06F17/50
CPC classification number: G06T7/0006 , G06T7/001 , G06T7/33 , G06T2207/10004 , G06T2207/20101 , G06T2207/30148
Abstract: 本发明提供一种用于自动产生晶片图像到设计的坐标映射的系统、方法及计算机程序产品。在使用中，晶片的设计由计算机处理器接收。另外，由所述计算机处理器接收由所述设计制造的晶片的图像。此外，由所述计算机处理器自动产生所述设计与所述图像之间的坐标映射。
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