公开(公告)号：CN110462797A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880023169.5

申请日：2018-03-14

Applicant: 福吉米株式会社 ,  东亚合成株式会社

Inventor： 沼田圭祐 ,  土屋公亮 ,  谷口惠 ,  竹本贵之

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

Abstract: 提供一种可以有效地减少边缘塌边量的研磨用组合物。通过本发明提供的研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、含氮水溶性高分子和水。含氮水溶性高分子的分子内不具有N-H键。

公开(公告)号：CN110462797B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN201880023169.5

申请日：2018-03-14

Applicant: 福吉米株式会社 ,  东亚合成株式会社

Inventor： 沼田圭祐 ,  土屋公亮 ,  谷口惠 ,  竹本贵之

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

Abstract: 提供一种可以有效地减少边缘塌边量的研磨用组合物。通过本发明提供的研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、含氮水溶性高分子和水。含氮水溶性高分子的分子内不具有N‑H键。

公开(公告)号：CN110402479A

公开(公告)日：2019-11-01

申请号：CN201880017925.3

申请日：2018-02-28

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 土屋公亮 ,  谷口惠 ,  沼田圭祐

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明提供：能提供对硅晶圆进行粗研磨时可以降低端部的流挂、且整体的平坦性改善的硅晶圆的研磨用组合物。本发明为一种研磨用组合物，其用于对硅晶圆进行粗研磨的用途，包含磨粒、水溶性高分子、碱性化合物和水，前述水溶性高分子包含对硅的蚀刻抑制能力不同的2种以上。