公开(公告)号：CN107254651A

公开(公告)日：2017-10-17

申请号：CN201710271937.6

申请日：2012-12-26

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 北村顺也 ,  水野宏昭 ,  菲洛夫泰亚-劳拉·托马 ,  斯蒂芬·兰纳 ,  卢兹-迈克尔·伯杰 ,  安内格特·波特霍夫

IPC: C23C4/11 ,  C23C4/129 ,  C23C4/134

CPC classification number: H01B3/10 ,  C23C4/11 ,  C23C4/129 ,  C23C4/134

Abstract: 氧化钇皮膜的孔隙率为1.5％以下，皮膜中的单斜晶氧化钇与立方晶氧化钇的总和中所占的单斜晶氧化钇的比率为1％以上且30％以下。该皮膜例如将含有氧化钇颗粒和分散介质的喷镀材料进行喷镀而形成。

公开(公告)号：CN104093874A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201280064537.3

申请日：2012-12-26

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 北村顺也 ,  水野宏昭 ,  菲洛夫泰亚-劳拉·托马 ,  斯蒂芬·兰纳 ,  卢兹-迈克尔·伯杰 ,  安内格特·波特霍夫

IPC: C23C4/10 ,  C23C4/02 ,  C23C4/12

CPC classification number: H01B3/10 ,  C23C4/11 ,  C23C4/129

Abstract: 氧化钇皮膜的孔隙率为1.5％以下，皮膜中的单斜晶氧化钇与立方晶氧化钇的总和中所占的单斜晶氧化钇的比率为1％以上且30％以下。该皮膜例如将含有氧化钇颗粒和分散介质的喷镀材料进行喷镀而形成。