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公开(公告)号：CN107306478A
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201610240096.8
申请日：2016-04-18
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H05K3/00
CPC classification number: H05K3/002 , H05K2203/0736 , H05K2203/081 , H05K2203/082
Abstract: 本发明涉及一种湿式蚀刻装置，包括一腔体以及一蚀刻喷洒模块。该腔体包括一进气口以及一出气口。该蚀刻喷洒模块设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻。该蚀刻喷洒模块包括一网板以及若干个喷嘴。该网板包括若干个孔洞。这些喷嘴设置于该网板之上方，这些孔洞之口径小于这些喷嘴之口径。该湿式蚀刻装置能将蚀刻液均匀地喷洒在基板上。
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公开(公告)号：CN107224785A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201610168121.6
申请日：2016-03-23
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于湿法工艺设备的气液分离装置，包含：一输入通道，与一湿法工艺设备连接，用于将所述湿法工艺设备的一化学性气液混合物输入所述气液分离装置；一螺旋杆，设置在所述气液分离装置的内部，用于将所述化学性气液混合物分离为一废气和一化学液体；一排液通道，位于所述湿法工艺设备的底部，与一用于收集所述化学液体的液体回收装置连接；以及一排气通道，用于将所述废气排出。
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公开(公告)号：CN107919299B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201610886966.9
申请日：2016-10-11
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及一种液位控制系统及方法。本发明通过利用一液体移除装置将一液体从一水槽逐渐移除，以达到基板在固定时间内均匀分段浸泡程序，进而避免现有技术中因机械移动基板方式，容易会有微振动而造成液面扰动进而造成基板因处理不均匀而报废的问题。
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公开(公告)号：CN107954607A
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201610960879.3
申请日：2016-11-04
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种湿式制程设备，包含一槽体、多个液浮载板以及多个导轮，所述槽体内形成有一槽室，所述槽室用以容置一基板，所述多个液浮载板设置在所述基板下方并用以对所述基板喷射一处理液，所述多个导轮用以输送所述基板，各导轮包含一轮轴部以及一轮体部，所述轮轴部具有一径向及一轴向，所述径向垂直于所述轴向，所述导轮绕所述轴向旋转，所述轮体部沿所述径向延伸于所述轮轴部，所述轮体部具有一胎面，所述胎面上形成有多个导轮出水孔，所述多个导轮出水孔用以对所述基板喷射所述处理液。
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公开(公告)号：CN107919299A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610886966.9
申请日：2016-10-11
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67086
Abstract: 本发明涉及一种液位控制系统及方法。本发明通过利用一液体移除装置将一液体从一水槽逐渐移除，以达到基板在固定时间内均匀分段浸泡程序，进而避免现有技术中因机械移动基板方式，容易会有微振动而造成液面扰动进而造成基板因处理不均匀而报废的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107459263A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201610440307.2
申请日：2016-06-17
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
CPC classification number: C03C15/00 , C03C23/0075
Abstract: 一种湿式制程设备，包含一槽体、多个导轮、多个液浮载板以及一水路模块，所述槽体用以容置一基板，所述多个导轮设置在所述槽体内并用以支撑所述基板的一侧边部，所述多个液浮载板设置在所述基板下方，所述多个液浮载板用以对所述基板喷射一处理液，以在所述基板与所述多个液浮载板间形成一薄膜层流，所述水路模块耦接于所述多个液浮载板，所述水路模块控制所述多个液浮载板产生沿一输送方向流动或沿相反于所述输送方向的一回复方向的所述薄膜层流。
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公开(公告)号：CN107238287A
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201610185935.0
申请日：2016-03-29
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: F27B17/00
CPC classification number: F27B17/0025 , F27M2003/08
Abstract: 本发明涉及一种烤炉，用于加热和干燥至少一基板。所述烤炉包括一操作腔室、一加热板以及一多孔板。所述操作腔室具有至少一排气孔用以排放所述操作腔室内加热的空气。所述加热板，设置于所述操作腔室底部，用以在所述操作腔室内产生一加热效果。所述多孔板，设置在所述加热板的边缘和一排气孔上方。所述至少一基板设置于所述加热板上。本发明通过设置所述多孔板，让所述操作腔室中的加热气流较为均匀，进而改善了加热温度不均匀现象。藉此，当所述基板为一液晶显示器基板(l iquid crystal display substrate)时，所制成的液晶显示面板的Mura现象(板亮度不均匀造成各种痕迹的现象)可被改善。
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公开(公告)号：CN107230651A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201610178085.1
申请日：2016-03-25
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67023 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明涉及一种整合式药液槽，特别适用于湿式制程。所述整合式药液槽包括一操作腔室、一液体槽以及一泵。所述操作腔室，用于执行湿式制程。所述液体槽，设置于所述操作腔室下方以及用于储存至少一液体。所述泵，用于自所述液体槽抽取所述至少一液体至所述操作腔室。所述至少一液体于所述操作腔室中使用后，通过所述操作腔室的至少一底板回收至所述液体槽。使用过的液体能够直接回到所述液体槽，而不需要通过管线输送，进而解决了漏液的问题。
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公开(公告)号：CN108022864B
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201610966533.4
申请日：2016-10-28
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种湿式制程装置。本发明藉由在一主液体移除单元旁设置一副液体移除单元，并在所述副液体移除单元与所述主液体移除单元之间形成一第二风口，产生一伯努利现象，进而藉由所述第二风口带走靠近一容器侧壁的液体，避免液体的累积。
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公开(公告)号：CN107224785B
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201610168121.6
申请日：2016-03-23
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于湿法工艺设备的气液分离装置，包含：一输入通道，与一湿法工艺设备连接，用于将所述湿法工艺设备的一化学性气液混合物输入所述气液分离装置；一螺旋杆，设置在所述气液分离装置的内部，用于将所述化学性气液混合物分离为一废气和一化学液体；一排液通道，位于所述湿法工艺设备的底部，与一用于收集所述化学液体的液体回收装置连接；以及一排气通道，用于将所述废气排出。
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