公开(公告)号：CN101297398A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200680040241.2

申请日：2006-10-24

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： D·伯丁斯基 ,  R·B·A·夏普 ,  M·H·布利斯 ,  J·休斯肯斯

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/76838 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/32139 ,  H01L21/76885 ,  H05K1/09 ,  H05K3/061 ,  H05K3/062 ,  H05K2203/0108 ,  H05K2203/0315 ,  H05K2203/0537 ,  H05K2203/0582 ,  H05K2203/1157 ,  H05K2203/1189 ,  H05K2203/122

Abstract: 使用氧化金掩模(30)来图案化金层(20)，优选地，以微接触印刷法使用酸来图案化该掩模。氧化金掩模(30)在用于金层(20)的碱性蚀刻溶液中是稳定的。可以保持氧化金掩模(30)以产生可再暴露的金衬垫(20)。

公开(公告)号：CN1863729B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200480029578.4

申请日：2004-10-07

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： D·布尔丁斯基 ,  R·B·A·夏普

IPC: B81C1/00 ,  G03F7/00 ,  B82B3/00 ,  B05D1/28

CPC classification number: B82Y30/00 ,  B05D1/283 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 提供一种具有体表面(12)的弹性印记(10)，从该体表面上延伸出凸出部件)(14，14’)。阻挡层(20)覆盖体表面(12)和凸出部件(14，14’)。将墨水溶液涂覆到弹性印记(10)并干燥该弹性印记(10)之后，弹性印记(10)开始与第一衬底(40)的表面(42)接触。第一衬底(40)的表面(42)对墨水分子(32)具有高亲合力，使用它从凸出部件(14，14’)的接触表面(16，16’)有效地除去墨水分子(32)。随后，使弹性印记(10)与第二衬底(50)的表面(52)接触。从凸出部件(14，14’)的边缘(18，18’)将墨水分子(32)传输到第二衬底(50)的表面(52)，由此在这个表面(52)上以自组织单层的形式形成墨水图案。本发明的构图方法可使用多种墨水在衬底(50)上形成高清晰度的墨水图案。

公开(公告)号：CN101088044A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200580044332.9

申请日：2005-12-14

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： D·布丁斯基 ,  R·B·A·夏普

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明涉及一种基于成核SAM生长的纳米制造工艺、由此制备的构图基板、由此制备的纳米线或纳米线格栅以及包括它们的电子器件。特别是，提供一种工艺，其包括向基板表面的第一表面区域施加第一SAM－形成分子物质，以便在第一表面区域上提供限定支架图案的第一SAM；以及至少向未被第一SAM覆盖的所述基板表面的第二表面区域施加第二SAM－形成分子物质，由此在基板表面上选择性地形成与所述第一SAM的至少一个边缘相邻的第二复制SAM，其包括所述第二SAM－形成分子物质。

公开(公告)号：CN1863729A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200480029578.4

申请日：2004-10-07

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： D·布尔丁斯基 ,  R·B·A·夏普

IPC: B81C1/00 ,  G03F7/00 ,  B82B3/00 ,  B05D1/28

CPC classification number: B82Y30/00 ,  B05D1/283 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 提供一种具有体表面(12)的弹性印记(10)，从该体表面上延伸出凸出部件(14，14’)。阻挡层(20)覆盖体表面(12)和凸出部件(14，14’)。将墨水溶液涂覆到弹性印记(10)并干燥该弹性印记(10)之后，弹性印记(10)开始与第一衬底(40)的表面(42)接触。第一衬底(40)的表面(42)对墨水分子(32)具有高亲合力，使用它从凸出部件(14，14’)的接触表面(16，16’)有效地除去墨水分子(32)。随后，使弹性印记(10)与第二衬底(50)的表面(52)接触。从凸出部件(14，14’)的边缘(18，18’)将墨水分子(32)传输到第二衬底(50)的表面(52)，由此在这个表面(52)上以自组织单层的形式形成墨水图案。本发明的构图方法可使用多种墨水在衬底(50)上形成高清晰度的墨水图案。