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公开(公告)号：CN116125785A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202211397020.8
申请日：2022-11-09
Applicant: 电子科技大学
IPC: G05B11/42
Abstract: 本发明公开了一种光刻机工件台运动控制方法，属于涉及精密运动控制领域。包括：将光刻机工件台的运动伺服系统的电流环和速度环设置作为广义被控对象；将位置环设置为非线性自抗扰控制对广义被控对象的位置进行反馈控制；在反馈控制中引入基于无模型自适应迭代学习优化及切换前馈控制以实现对所述运动伺服系统的控制。本发明同时降低了控制运动伺服系统设计难度的和建模复杂度，且通过引入的基于无模型自适应迭代学习优化及切换前馈控制对系统所受到的扰动进行估计和补偿，提高了定位精度与跟踪精度，减小了稳态跟踪误差，不仅使运动伺服系统可以保证稳定性和相应的快速性，还使运动伺服系统的输出轨迹在任何时刻都可以最大程度地复现参考轨迹。
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