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公开(公告)号:CN113817996A
公开(公告)日:2021-12-21
申请号:CN202111010606.X
申请日:2021-08-31
Applicant: 电子科技大学
Abstract: 本发明提供一种YBCO薄膜表面制备高质量银电极的方法,属于电极制备技术领域。该制备方法采用热蒸发法在YBCO薄膜表面制备银电极,并在蒸发过程中根据银电极的膜厚调控蒸发速率,得到高质量的银电极,且电极的附着性好、接触电阻小。
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公开(公告)号:CN113817996B
公开(公告)日:2023-01-31
申请号:CN202111010606.X
申请日:2021-08-31
Applicant: 电子科技大学
Abstract: 本发明提供一种YBCO薄膜表面制备高质量银电极的方法,属于电极制备技术领域。该制备方法采用热蒸发法在YBCO薄膜表面制备银电极,并在蒸发过程中根据银电极的膜厚调控蒸发速率,得到高质量的银电极,且电极的附着性好、接触电阻小。
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公开(公告)号:CN115287627A
公开(公告)日:2022-11-04
申请号:CN202210319028.6
申请日:2022-03-29
Applicant: 电子科技大学
Abstract: 本发明提供的一种有效保护超薄钇钡铜氧薄膜的方法,属于高温超导薄膜技术领域,利用ALD技术,在100~150℃、0.15Torr下,先充入氧源0.015s,经氩气冲洗60s后,再充入铝源0.003s,之后氩气冲洗60s,重复100~200圈后,在超薄YBCO薄膜表面无损生长氧化铝保护层,有效保护超薄YBCO薄膜,在空气中和真空中环境中具有长期耐受性,并能隔绝溶液,可用于微纳加工的光刻工艺。
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