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发明公开
一种基于投影式无掩膜光刻设备的对准套刻光路及其方法无效

公开(公告)号：CN110174824A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201910460820.1

申请日：2019-05-30

Applicant: 电子科技大学

Inventor： 李春 , 曾诚 , 兰长勇 , 周思翰 , 吴浩仑 , 何天应

IPC: G03F9/00 , G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种基于投影式无掩膜光刻设备的对准套刻光路及其方法，应用于无掩膜光刻技术领域，针对传统的掩模光刻对准系统要在掩模版上构造标记，对于投影式无掩膜光刻设备，传统的对准方式不适用的问题，本发明通过透镜或透镜组准直对准光源产生的光束；通过合束光学元件将光束耦合进投影曝光主光路；对准光束照射到图像生成装置后反射，形成对准图形；对准图形经过微缩透镜组实现图像的微缩投影；调整工件台的垂直距离实现对准图形在待光刻基片的清晰成像；调整工件台的水平坐标和旋转角度，实现对准图形与待光刻基片的位置对准；最后打开曝光光源，完成投影曝光；实现了投影式无掩膜光刻设备的对准套刻。

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