一种低硼纯晶硅
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108441952A

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201810502251.8

    申请日:2018-05-23

    CPC classification number: C30B29/06 C30B28/04

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种低硼纯晶硅,此低硼纯晶硅能够达到太阳能级纯晶硅的要求,是以物理法纯晶硅生产方式替代西门子法、改良西门子法或硅烷法等化学法生产的纯晶硅,首先将碳原料与二氧化硅混合,在1500-2700℃的温度下进行第一次冶炼制得碳化硅;然后将a步骤制得的碳化硅再次与二氧化硅混合,在1500-2700℃的温度下进行第二次冶炼,制得低硼纯晶硅。本发明通过选用硼含量小于0.2ppm的碳原料、硼含量小于0.14ppm的第一部分二氧化硅和硼舍量小于0.14ppm的第二部分二氧化硅,冶炼制得的纯晶硅无需再次脱硼即能够满足太阳能级低硼纯晶硅的要求。本发明在太阳能级纯晶硅市场上有极大的推广价值,符合国家目前大力提倡的循环经济,具有显著的环境效益和社会效益。

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