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公开(公告)号:CN106019640A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:CN201610172326.1
申请日:2016-03-24
Applicant: 瑞萨电子株式会社
IPC: G02F1/025
CPC classification number: H01L31/18 , G02B6/122 , G02B6/1223 , G02B6/13 , G02B6/136 , G02F1/025 , H01L31/02325
Abstract: 本发明提供一种半导体装置以及其制造方法,谋求半导体装置的高集成化,并实现半导体芯片的小型化。该半导体装置包括半导体基板(SUB)、在半导体基板(SUB)上形成的由氧化硅构成的绝缘层(CL)以及在绝缘层(CL)上形成的由硅构成的半导体层(SL),通过半导体层(SL)而形成有光信号用传输线路部(A)的光波导(PO)以及光调制部(B)的光调制器(PC)。并且,绝缘层(CL)成为留下其一部分而具有空洞的中空构造,构成光波导(PO)以及光调制器(PC)的半导体层(SL)各自的两侧面以及下表面露出而被空气覆盖。