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公开(公告)号:CN119553231A
公开(公告)日:2025-03-04
申请号:CN202311732137.1
申请日:2023-12-14
Abstract: 本发明涉及用于电化学设备的隔膜处理装置及溅射靶。本发明提供了一种用于电化学设备的隔膜处理装置,该隔膜处理装置包括:真空室;基座,其设置在该真空室中并且被配置为允许隔膜安放在该基座上;以及溅射靶,其设置在该真空室上并且包括靶元件和发光元件,这些靶元件和发光元件将被沉积在该隔膜上,由此获得精确检测溅射靶的寿命和溅射靶的更换时间的有利效果。
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公开(公告)号:CN115195772A
公开(公告)日:2022-10-18
申请号:CN202111141893.8
申请日:2021-09-28
Applicant: 现代自动车株式会社 , 起亚株式会社 , 汉阳大学校产学协力团
IPC: B60W60/00
Abstract: 本发明涉及用于预测周围车辆的轨迹的装置和方法。用于预测周围车辆的轨迹的装置包括存储器和控制器,存储器配置为存储高清晰度地图、车道选择网络(LSN)和轨迹预测网络(TPN),控制器基于高清晰度地图提取在本车周围行驶的目标车辆的周围车道信息,将目标车辆的周围车道信息和目标车辆的先前轨迹信息输入到LSN以检测参考车道信息,并且将参考车道信息和目标车辆的先前轨迹信息输入到TPN,以获得目标车辆的未来轨迹信息。
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