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发明公开
用于电化学设备的隔膜处理装置及溅射靶审中-公开

公开(公告)号：CN119553231A

公开(公告)日：2025-03-04

申请号：CN202311732137.1

申请日：2023-12-14

Applicant: 现代自动车株式会社 , 起亚株式会社

Inventor： 金延洙 , 朴泳俊 , 金正洙 , 李智汉 , 任成云

IPC: C23C14/34 , C23C14/54

Abstract: 本发明涉及用于电化学设备的隔膜处理装置及溅射靶。本发明提供了一种用于电化学设备的隔膜处理装置，该隔膜处理装置包括：真空室；基座，其设置在该真空室中并且被配置为允许隔膜安放在该基座上；以及溅射靶，其设置在该真空室上并且包括靶元件和发光元件，这些靶元件和发光元件将被沉积在该隔膜上，由此获得精确检测溅射靶的寿命和溅射靶的更换时间的有利效果。

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