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公开(公告)号：CN104924989A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201410837450.6
申请日：2014-12-29
IPC: B60R1/08
Abstract: 本发明提供一种面发光镜，其中在镜玻璃的镜面整体或其特定局部区域处形成有纳米图案，并且在纳米图案的周围设置有光源，使得该面发光镜在通常工作中像镜子那样使用。特别地，当光源被点亮时，其上形成有纳米图案的镜面整体或其特定局部区域通过来自光源的进入镜玻璃侧面的光线而面发光，由此使镜子的反射功能不变差。
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公开(公告)号：CN109564867B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN201780048666.6
申请日：2017-08-02
Applicant: (株)SEP
IPC: H01L21/306 , G03F7/20 , G03F1/80 , H01L21/02 , H01L21/3213
Abstract: 本发明涉及纳米突起形成方法及具有通过该方法形成的纳米突起表面的母材，其特征在于，在不使用纳米掩模(mask)的情况下，通过使用酸溶液的湿式蚀刻工序来形成包括具有数nm～数十nm的宽度的纳米突起的抗反射层和/或包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层。
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公开(公告)号：CN109564867A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780048666.6
申请日：2017-08-02
Applicant: (株)SEP
IPC: H01L21/306 , G03F7/20 , G03F1/80 , H01L21/02 , H01L21/3213
Abstract: 本发明涉及纳米突起形成方法及具有通过该方法形成的纳米突起表面的母材，其特征在于，在不使用纳米掩模(mask)的情况下，通过使用酸溶液的湿式蚀刻工序来形成包括具有数nm～数十nm的宽度的纳米突起的抗反射层和/或包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层。
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公开(公告)号：CN103476594A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201280018028.7
申请日：2012-03-27
Applicant: (株)SEP
IPC: B41M1/14
CPC classification number: H01L51/0005 , B41M5/0011 , G02F1/133516 , H01L27/3211
Abstract: 本发明涉及利用等离子体预处理的RGB印刷方法及用于其的等离子体装置，更具体地涉及，其中，包括如下步骤:a)在无机基板上形成有机隔断；b)利用等离子体对基板表面进行亲水化处理，上述基板表面形成有上述有机隔断；c)利用等离子体对上述亲水化处理的基板表面进行疏水化处理；以及d)在上述疏水化处理的基板上的有机隔断之间，喷墨打印RGB有机溶剂。通过利用本发明的等离子体预处理的RGB印刷方法及大气压等离子体装置，从而在喷墨打印RGB有机溶剂时，可简单有效地防止溶剂之间的相互干扰及弥散，进而可显著提高利用RGB有机溶剂的显示器装置的品质。
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公开(公告)号：CN203551829U
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201320534017.6
申请日：2013-08-29
Applicant: (株)SEP
IPC: G02B6/00 , F21V8/00 , F21Y101/02
CPC classification number: G02B6/0036 , G02B6/0065 , G02B6/0068
Abstract: 本实用新型涉及表面形成有纳米图案的平面照明透明基板及利用其的平面照明面板，所述平面照明透明基板为了将从板状的透明基板的侧面流入的光照明至透明基板的整体平面，在表面形成纳米结构物；所述平面照明面板包括所述平面照明透明基板；透明基板窗框，其沿着上述平面照明透明基板的侧面设置；以及光源，其设置于上述透明基板窗框，从而将光流入至上述平面照明透明基板的侧面。本实用新型在可见光的透过率没有降低的情况下，可平面照明，并且可实现显示（display）功能。
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公开(公告)号：CN203849436U
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201320533036.7
申请日：2013-08-29
Applicant: (株)SEP
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/118 , G02B2207/101
Abstract: 本实用新型涉及一种防反射基板，其在表面形成有防反射凸起(anti-reflection)，防反射凸起具有纳米尺度(nano scale)凸起和微尺度(micro scale)凸起混合的形状，从而共同改善短波长和长波长的透射率。
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公开(公告)号：CN203596358U
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201320534021.2
申请日：2013-08-29
Applicant: (株)SEP
Abstract: 本实用新型涉及纳米图案涂覆技术领域，具体公开了一种连续式纳米图案装置包括：加载锁舱室（10），其将作为非加工物的基板投入到工艺中；溅射舱室（20），从上述加载锁舱室（10）排出的基板投入其中，并且在上述基板表面通过溅射方式形成纳米掩膜；蚀刻舱室（30），在表面形成有纳米掩膜的基板投入其中，并且蚀刻上述基板的表面后，形成纳米掩膜；以及卸载锁舱室（40），其将形成有纳米图案的基板排出至装置外部，并且，上述舱室通过一个连续式设备进行连接，从而投入至上述加载锁舱室（10）的基板连续经过上述溅射舱室（20）及蚀刻舱室（30）后，从上述蚀刻舱室（40）排出。本实用新型还提供了一种防反射基板。
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