连续式纳米图案装置及利用其制造的防反射基板

    公开(公告)号:CN203596358U

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201320534021.2

    申请日:2013-08-29

    Applicant: (株)SEP

    Abstract: 本实用新型涉及纳米图案涂覆技术领域,具体公开了一种连续式纳米图案装置包括:加载锁舱室(10),其将作为非加工物的基板投入到工艺中;溅射舱室(20),从上述加载锁舱室(10)排出的基板投入其中,并且在上述基板表面通过溅射方式形成纳米掩膜;蚀刻舱室(30),在表面形成有纳米掩膜的基板投入其中,并且蚀刻上述基板的表面后,形成纳米掩膜;以及卸载锁舱室(40),其将形成有纳米图案的基板排出至装置外部,并且,上述舱室通过一个连续式设备进行连接,从而投入至上述加载锁舱室(10)的基板连续经过上述溅射舱室(20)及蚀刻舱室(30)后,从上述蚀刻舱室(40)排出。本实用新型还提供了一种防反射基板。

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