分析用衬底
    4.
    发明公开
    分析用衬底 审中-实审

    公开(公告)号:CN112639449A

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201980057800.8

    申请日:2019-09-11

    Abstract: 本发明的分析用衬底具备:基材(10),至少第一面(10a)包含介电体或半导体;及金属膜(20),具有设置在基材(10)的第一面(10a)上的凸部(21)及凸部(22);凸部(21)的顶部(21a)的高度是金属膜(20)的表面高度分布中与基材(10)的距离最大的峰的高度,凸部(22)的顶部(22a)的高度是金属膜(20)的表面高度分布中与基材(10)的距离第二大的峰的高度,凸部(21)及凸部(22)的除槽区域(H3)以外的部分的宽度的平均值为200nm以下,所述槽区域(H3)是与基材(10)的距离最小的峰的高度。

    细胞团块形成构件、培养容器、培养细胞的生产方法、带有细胞团块形成构件的培养细胞

    公开(公告)号:CN116802266A

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202280011407.7

    申请日:2022-03-29

    Abstract: 本发明的一个方式提供:能够容易地形成细胞团块且工业上的量产性优异的细胞团块形成构件;具备所述细胞团块形成构件的培养容器;使用所述细胞团块形成构件的培养细胞的生产方法;以及具备所述细胞团块形成构件的带有细胞团块形成构件的培养细胞。本发明的一例的细胞团块形成构件(1B)具有基材(2),在基材(2)的表面(2a)形成有附着抑制区域(3A)和细胞附着区域(4B),在细胞附着区域(4B)形成有包含多个凸部(7)的微细凹凸结构区域(6),在附着抑制区域(3A)和细胞附着区域(4B)这两者形成有亲水性涂层(5)。一例的培养容器和带有细胞团块形成构件的培养细胞具备细胞团块形成构件(1B)。一例的培养细胞的生产方法中使用细胞团块形成构件(1B)。

Patent Agency Ranking