公开(公告)号：CN107431010A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680018960.8

申请日：2016-04-08

Applicant: 王子控股株式会社

Inventor： 梶田康仁 ,  平间智 ,  大纮太郎 ,  筱塚启

IPC: H01L21/3065 ,  H01L33/22

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01L33/22

Abstract: 具有凹凸构造之基板的制造方法，包括：第1掩模形成工序，在基板(11)之上形成包含由多个粒子(P)所构成的单粒子膜(F)的第1掩模(21)；第2掩模形成工序，在基板(11)之上，通过包含掩模材料的液状体的固化来形成第2掩模(22)；以及蚀刻工序，使用第1掩模(21)和第2掩模(22)来蚀刻基板(11)。

公开(公告)号：CN107431010B

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN201680018960.8

申请日：2016-04-08

Applicant: 王子控股株式会社

Inventor： 梶田康仁 ,  平间智 ,  大纮太郎 ,  筱塚启

IPC: H01L21/3065 ,  H01L33/22

Abstract: 具有凹凸构造之基板的制造方法，包括：第1掩模形成工序，在基板(11)之上形成包含由多个粒子(P)所构成的单粒子膜(F)的第1掩模(21)；第2掩模形成工序，在基板(11)之上，通过包含掩模材料的液状体的固化来形成第2掩模(22)；以及蚀刻工序，使用第1掩模(21)和第2掩模(22)来蚀刻基板(11)。

公开(公告)号：CN111095035A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201880055595.7

申请日：2018-08-22

Applicant: 王子控股株式会社

Inventor： 平间智 ,  篠塚启

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/118 ,  G02B5/00

Abstract: 本发明提供一种抗反射结构体(1)，具备多个有底筒状的吸光单元(2)，所述吸光单元(2)包括具有大致圆形的外缘部的底部及沿所述外缘部竖立的壁部，所述底部的上方设为开口部，所述抗反射结构体(1)满足特定的条件。