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公开(公告)号:CN106099641A
公开(公告)日:2016-11-09
申请号:CN201610534175.X
申请日:2016-07-08
Applicant: 燕山大学
CPC classification number: H01S5/3013 , H01S5/323
Abstract: 一种半导体激光器的制备方法,所述方法包括如下步骤:a、将衬底表面处理干净;b、在清洁的衬底表面利用干法刻蚀或湿法刻蚀工艺制备锥状n型欧姆接触层;c、在n型欧姆接触层表面制备n型限制层;d、在n型限制层表面制备本征层;e、在本征层表面制备p型限制层;f、在p型限制层表面制备p型欧姆接触层。本发明发光面积大、发光角度可调、效率高。
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公开(公告)号:CN106159674A
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201610534227.3
申请日:2016-07-08
Applicant: 燕山大学
CPC classification number: H01S5/32 , H01S5/2018 , H01S5/30
Abstract: 一种激光器的制备方法,所述方法包括如下步骤:a、将衬底表面处理干净;b、在清洁的衬底表面利用干法刻蚀或湿法刻蚀工艺制备锥状n型欧姆接触层;c、在n型欧姆接触层表面制备n型限制层;d、在n型限制层表面制备本征层;e、在本征层表面制备p型限制层;f、在p型限制层表面制备p型欧姆接触层。本发明发光面积大、发光角度可调、效率高。
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