一种半导体激光器的制备方法

    公开(公告)号:CN106099641A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610534175.X

    申请日:2016-07-08

    Applicant: 燕山大学

    CPC classification number: H01S5/3013 H01S5/323

    Abstract: 一种半导体激光器的制备方法,所述方法包括如下步骤:a、将衬底表面处理干净;b、在清洁的衬底表面利用干法刻蚀或湿法刻蚀工艺制备锥状n型欧姆接触层;c、在n型欧姆接触层表面制备n型限制层;d、在n型限制层表面制备本征层;e、在本征层表面制备p型限制层;f、在p型限制层表面制备p型欧姆接触层。本发明发光面积大、发光角度可调、效率高。

    一种激光器的制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106159674A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201610534227.3

    申请日:2016-07-08

    Applicant: 燕山大学

    CPC classification number: H01S5/32 H01S5/2018 H01S5/30

    Abstract: 一种激光器的制备方法,所述方法包括如下步骤:a、将衬底表面处理干净;b、在清洁的衬底表面利用干法刻蚀或湿法刻蚀工艺制备锥状n型欧姆接触层;c、在n型欧姆接触层表面制备n型限制层;d、在n型限制层表面制备本征层;e、在本征层表面制备p型限制层;f、在p型限制层表面制备p型欧姆接触层。本发明发光面积大、发光角度可调、效率高。

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