一种喷涂喷嘴结构及其所构成的等离子喷涂设备系统

    公开(公告)号:CN220926895U

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202322689927.8

    申请日:2023-10-08

    Abstract: 本实用新型涉及等离子喷涂领域,具体公开了一种喷涂喷嘴结构及其所构成的等离子喷涂设备系统,包括喷嘴,喷嘴包括喷嘴壳体和位于喷嘴壳体内部的喷嘴主体,喷嘴壳体内壁与喷嘴主体外壁之间形成有水冷却空腔;喷嘴主体包括送气壳体和阴极棒,送气壳体内壁与阴极棒外壁之间具有送气通道,送气壳体后端具有进气口,送气壳体前端具有喷气嘴;喷嘴壳体上安装有送粉组件,送粉组件依次由送粉入口、送粉主体、送粉辅助段组成,送粉入口贯穿喷嘴壳体设置,送粉主体具有送粉主通道,送粉辅助段具有喇叭口送粉通道,送粉辅助段上安装有阳极体。本实用新型送粉组件形成等离子射流并在喷嘴主体外侧经过一段时间预热,同时喷涂粉末受力均匀,喷涂质量更佳。

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