碳化硼粉末表面化学镀铜的方法及其化学镀液

    公开(公告)号:CN103805976A

    公开(公告)日:2014-05-21

    申请号:CN201310628926.0

    申请日:2013-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种碳化硼粉末表面化学镀铜用化学镀液,以浓度计,含有15-20g/L硫酸铜、20-30g/L乙二胺四乙酸二钠、10-15g/L酒石酸钾钠和15-20ml/L水合肼,化学镀液的pH值为12-13。本发明碳化硼粉末表面化学镀铜用化学镀液中的还原剂为水合肼,价格低廉且不会污染环境,在碱性条件下具有很强的还原能力,氧化产物是干净的N2,不会引入杂质金属离子;络合剂为酒石酸钾钠和乙二胺四乙酸二钠,对环境污染小且络合能力强,可在高温强碱下长时间保持镀液稳定。此外,本发明还公开了一种碳化硼粉末表面化学镀铜的方法,其可以在碳化硼粉末表面形成一层纳米级均匀、致密的铜镀层,可有效降低碳化硼粉末与金属基材的润湿角和界面反应。

    一种制备金属基复合材料的搅拌装置

    公开(公告)号:CN109589832B

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201811621716.8

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种制备金属基复合材料的搅拌装置,包括搅拌容器、搅拌轴与搅拌叶,搅拌容器具有用于存放熔体的内腔,内腔包括具有下凹弧面的底段,以及与底段的顶部相切的中段,中段的直径逐步缩小;搅拌叶包括第一面、第二面与第三面,第一面与第二面均与轴心平行,第三面分别与第一面、第二面倾斜相交,第一面与第二面相交于第一侧边,第一面还包括位于第一面底部的第二侧边,第三面与第一面的相交线的两端分别位于第一侧边与第二侧边上,第三面与第二面的相交线与第一侧边之间的夹角为30°~60°。本发明可以得到熔体能够产生足够的轴向流动,从而减少搅拌叶片上方的停滞区,以及搅拌叶片下方的停滞区,保证浆搅拌的均匀一致。

    一种用于液态搅拌的扰流装置与扰流方法

    公开(公告)号:CN109621777A

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201811620488.2

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本发明涉及材料加工技术领域,公开了一种用于液态搅拌的扰流装置与扰流方法,用于液态搅拌的扰流装置包括搅拌罐、搅拌棒与扰流棒,搅拌棒与扰流棒位于搅拌罐的内部,扰流棒的直径为搅拌罐的内直径的10%‑20%,扰流棒距搅拌罐的中心的水平距离为搅拌罐的内半径的50%‑75%;用于液态搅拌的扰流方法包括在搅拌罐内设置扰流棒与搅拌棒,使扰流棒的直径为搅拌罐的内直径的10%‑20%,使扰流棒距搅拌罐的中心的水平距离为搅拌罐的内半径的50%‑75%。上述扰流方法与扰流装置可使浆料与扰流棒发生撞击,形成高速稳定的湍流,有利于将投入的粉体分散开,避免陶瓷粉体塞积,使浆料混合更均匀。

    一种制备金属基复合材料的搅拌装置

    公开(公告)号:CN109589832A

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201811621716.8

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种制备金属基复合材料的搅拌装置,包括搅拌容器、搅拌轴与搅拌叶,搅拌容器具有用于存放熔体的内腔,内腔包括具有下凹弧面的底段,以及与底段的顶部相切的中段,中段的直径逐步缩小;搅拌叶包括第一面、第二面与第三面,第一面与第二面均与轴心平行,第三面分别与第一面、第二面倾斜相交,第一面与第二面相交于第一侧边,第一面还包括位于第一面底部的第二侧边,第三面与第一面的相交线的两端分别位于第一侧边与第二侧边上,第三面与第二面的相交线与第一侧边之间的夹角为30°~60°。本发明可以得到熔体能够产生足够的轴向流动,从而减少搅拌叶片上方的停滞区,以及搅拌叶片下方的停滞区,保证浆搅拌的均匀一致。

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