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公开(公告)号：CN104749325A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201510172271.X
申请日：2015-04-13
Applicant: 清华大学
IPC: G01N33/00
Abstract: 一种原位输运性质测量方法，包括以下步骤：一第一真空环境中，在一基底上制备一膜状结构；一第二真空环境中，在该膜状结构远离基底的表面设置一电极，并在所述膜状结构远离基底的表面上进行微刻划处理，刻划出一微刻划区域，所述电极位于该微刻划区域内；以及一第三真空环境中，将一探针阵列接触所述电极，进行输运性质的测量；所述第一真空环境、第二真空环境、第三真空环境为一连续的真空环境，该连续的真空环境是指所述膜状结构从第一真空环境直接进入第二真空环境，并从第二真空环境直接进入第三真空环境，该膜状结构没有与空气接触。本发明还涉及一种原位输运性质测量装置。
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公开(公告)号：CN108504992B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN201810601634.0
申请日：2018-06-12
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明涉及材料制备技术领域，特别是涉及一种电极蒸镀装置，包括：支撑台、第一限位件、掩膜架、第一弹性件和第二限位件。第一限位件固定于支撑台的一侧，掩膜架滑设于第一限位件；第一弹性件设置于第一限位件和掩膜架之间；第二限位件滑设于支撑台；利用传样抓手将样品安装到支撑台，传样抓手对第二限位件施加外力，第二限位件在外力的作用下，将掩膜架朝远离支撑台的方向推动。当外力撤除时，第一弹性件将掩膜架向支撑台的方向推动，以使掩膜与样品接触。这样，本发明的电极蒸镀装置，不需要利用单独的操作杆来操作掩膜架，而是在完成样品传送的同时实现样品与掩膜的接触。从而便于检测人员操作，简化了操作的步骤，降低了操作的难度。
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公开(公告)号：CN104777193B
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201510172191.4
申请日：2015-04-13
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种原位输运性质测量装置，包括：一低维材料制备系统，用于制备膜状结构；以及一输运性质测量系统，用于测量所述膜状结构的输运性质；所述原位输运性质测量装置进一步包括一低维材料处理系统，用于在所述膜状结构的表面设置电极；所述低维材料制备系统、低维材料处理系统和输运性质测量系统之间通过磁力杆传送所述膜状结构，且所述低维材料制备系统、低维材料处理系统、输运性质测量系统中均为真空环境。
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公开(公告)号：CN104749325B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201510172271.X
申请日：2015-04-13
Applicant: 清华大学
IPC: G01N33/00
Abstract: 一种原位输运性质测量方法，包括以下步骤：一第一真空环境中，在一基底上制备一膜状结构；一第二真空环境中，在该膜状结构远离基底的表面设置一电极，并在所述膜状结构远离基底的表面上进行微刻划处理，刻划出一微刻划区域，所述电极位于该微刻划区域内；以及一第三真空环境中，将一探针阵列接触所述电极，进行输运性质的测量；所述第一真空环境、第二真空环境、第三真空环境为一连续的真空环境，该连续的真空环境是指所述膜状结构从第一真空环境直接进入第二真空环境，并从第二真空环境直接进入第三真空环境，该膜状结构没有与空气接触。本发明还涉及一种原位输运性质测量装置。
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公开(公告)号：CN104777193A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201510172191.4
申请日：2015-04-13
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种原位输运性质测量装置，包括：一低维材料制备系统，用于制备膜状结构；以及一输运性质测量系统，用于测量所述膜状结构的输运性质；所述原位输运性质测量装置进一步包括一低维材料处理系统，用于在所述膜状结构的表面设置电极；所述低维材料制备系统、低维材料处理系统和输运性质测量系统之间通过磁力杆传送所述膜状结构，且所述低维材料制备系统、低维材料处理系统、输运性质测量系统中均为真空环境。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104749470A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201510172008.0
申请日：2015-04-13
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种输运性质测量系统，包括一测量头和一测量腔，所述测量头包括一样品台、一探针台和一第一电极盘，所述探针台位于所述样品台与第一电极盘之间，所述测量腔内具有一第二电极盘，所述第一电极盘和第二电极盘具有一一对应的电极。本发明进一步涉及一利用所述输运性质测量系统的原位输运性质的测量装置及其测量方法。
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公开(公告)号：CN106646860A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611031638.7
申请日：2016-11-18
Applicant: 清华大学
CPC classification number: G02B26/101 , G02B21/242
Abstract: 本技术方案提供的微动装置，通过压力施加装置与支撑底座来向所述第一移动台和所述第二移动台施加垂直于第一方向和第二方向的力，与具有第一夹角的所述两个第一压电陶瓷接触面，和具有第二夹角的所述两个第二压电陶瓷接触面配合工作，提高了微动装置的准直性。所述微动装置还进一步包括第三方向微动组件，从而使得所述微动装置可以实现三维移动。另外，本技术方案还提供一种采用所述微动装置的显微镜扫描头和显微镜。
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公开(公告)号：CN108445330B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN201810602650.1
申请日：2018-06-12
Applicant: 清华大学
IPC: G01R31/00
Abstract: 本发明涉及一种原位置检测装置，包括：测量头、驱动机构以及检测腔体；检测腔体上设置有第一光学观察孔，测量头上设置有第二光学观察孔；检测腔体上开设有用于供测量头通过的开口；检测腔体上还设置有屏蔽门，驱动机构与屏蔽门连接，用于驱动屏蔽门相对于检测腔体移动，以敞开或者覆盖开口，而打开或者关闭检测腔体。将本发明的原位置检测装置安装在超真空检测系统中，给检测人员提供了一种在光学观察方法下将样品与探针对准并检测样品各项电学性能的检测平台，无需再将样品从超高真空的检测环境中取出，极大的减少了检测人员的操作步骤，提高检测效率。且保证样品在检测过程中始终处于真空环境，实现了对样品表面性质的保护。
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公开(公告)号：CN106646860B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201611031638.7
申请日：2016-11-18
Applicant: 清华大学
Abstract: 本技术方案提供的微动装置，通过压力施加装置与支撑底座来向所述第一移动台和所述第二移动台施加垂直于第一方向和第二方向的力，与具有第一夹角的所述两个第一压电陶瓷接触面，和具有第二夹角的所述两个第二压电陶瓷接触面配合工作，提高了微动装置的准直性。所述微动装置还进一步包括第三方向微动组件，从而使得所述微动装置可以实现三维移动。另外，本技术方案还提供一种采用所述微动装置的显微镜扫描头和显微镜。
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公开(公告)号：CN108504992A
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201810601634.0
申请日：2018-06-12
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明涉及材料制备技术领域，特别是涉及一种电极蒸镀装置，包括：支撑台、第一限位件、掩膜架、第一弹性件和第二限位件。第一限位件固定于支撑台的一侧，掩膜架滑设于第一限位件；第一弹性件设置于第一限位件和掩膜架之间；第二限位件滑设于支撑台；利用传样抓手将样品安装到支撑台，传样抓手对第二限位件施加外力，第二限位件在外力的作用下，将掩膜架朝远离支撑台的方向推动。当外力撤除时，第一弹性件将掩膜架向支撑台的方向推动，以使掩膜与样品接触。这样，本发明的电极蒸镀装置，不需要利用单独的操作杆来操作掩膜架，而是在完成样品传送的同时实现样品与掩膜的接触。从而便于检测人员操作，简化了操作的步骤，降低了操作的难度。
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