一种硅通孔辅助的钙钛矿单晶阵列及与CMOS芯片互连方法

    公开(公告)号:CN119907327A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202510039957.5

    申请日:2025-01-10

    Abstract: 本发明公开了一种硅通孔辅助的钙钛矿单晶阵列及与CMOS芯片互连方法,钙钛矿单晶阵列包括硅基底、隔离层、钙钛矿单晶、公共电极和像素化金属电极,硅基底具有阵列化的贯穿通孔,钙钛矿单晶位于通孔内部,公共电极沉积在硅基底和钙钛矿单晶的表面上,像素化金属电极沉积在硅基底和钙钛矿单晶远离公共电极一侧的表面上;在应用过程中,将钙钛矿单晶阵列与CMOS芯片通过倒装焊接技术实现互连。本发明通过利用硅通孔的高精度加工能力与钙钛矿材料的优异性能相结合,确保了与CMOS工艺的兼容性,实现了高质量钙钛矿单晶阵列的像素化和与底层的CMOS读出芯片的高密度集成互连,从而为低成本、高性能X射线成像器件的制造提供了一种创新的技术路径。

    一种简易高效的气相氛围钙钛矿退火方法

    公开(公告)号:CN118946229A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202411026133.6

    申请日:2024-07-29

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种简易高效的气相氛围钙钛矿退火方法,将钙钛矿前驱体溶液置于衬底上形成钙钛矿薄膜,在退火步骤之前将聚酰亚胺胶带紧贴在薄膜上并施加压力,随后整体在钙钛矿退火条件下进行退火。本发明通过比较简单的方法营造气相氛围对钙钛矿材料退火,在降低成本的同时,促进晶粒生长、减少杂质、提升钙钛矿薄膜平整度,可以满足商业化的需求。

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