抗菌羟基磷灰石镀层的制备方法

    公开(公告)号:CN1059874C

    公开(公告)日:2000-12-27

    申请号:CN98120506.2

    申请日:1998-10-16

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种抗菌羟基磷灰石镀层的制备方法,该方法首先是在清洗过的样品表面溅射沉积羟基磷灰石镀层,然后将镀完膜的样品放在浓度为20-100ppm的AgNO3溶液中,室温下浸泡24-48小时,即为具有抗菌羟基磷灰石镀层的样品。本发明制备的样品,其杀菌率在24小时内达100%,对巨噬细胞、成骨细胞等无毒副作用,具有良好的生物相容性。

    抗菌羟基磷灰石镀层的制备方法

    公开(公告)号:CN1213644A

    公开(公告)日:1999-04-14

    申请号:CN98120506.2

    申请日:1998-10-16

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种抗菌羟基磷灰石镀层的制备方法,该方法首先是在清洗过的样品表面溅射沉积羟基磷灰石镀层,然后将镀完膜的样品放在浓度为20—100ppm的AgNO3溶液中,室温下浸泡24—48小时,即为具有抗菌羟基磷灰石镀层的样品。本发明制备的样品,其杀菌率在24小时内达100%,对巨噬细胞、成骨细胞等无毒副作用,具有良好的生物相容性。

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