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公开(公告)号:CN118360655A
公开(公告)日:2024-07-19
申请号:CN202410301968.1
申请日:2024-03-13
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
Abstract: 本申请公开了一种铝合金抛光液及其制备方法。本发明的铝合金抛光液是由以下质量配比的原料制成:10%‑30%去离子水,60%‑80%磨料,1%‑5%润滑剂4%,0.1%‑0.5%表面活性剂,0.01%‑0.05%防腐剂,0.01%‑0.05%pH缓蚀剂,0.1%‑0.5%钠盐。制备的抛光液稳定,抛光效果和质量优。
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公开(公告)号:CN117079737A
公开(公告)日:2023-11-17
申请号:CN202311339933.9
申请日:2023-10-17
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
Abstract: 本发明的实施例提供了基于成分设计的抛光液预测方法和装置,通过获取不同组分配比和pH对应下的抛光液稳定性、接触角以及抛光处理后的粗糙度数据,作为训练数据;分别构建线性回归模型、稳定性预测模型、指数函数回归模型,获得不同变量下,粗糙度预测值和实际值之间的第一相关系数稳定性预测值和实际值之间的第二相关系数;接触角预测值和实际值之间的第三相关系数;构建神经网络模型,根据所述第一相关系数、第二相关系数或/和第三相关系数,调整变量连接权重,使MSE在5%以下,得到优化后的神经网络模型,对抛光液稳定性、接触角和粗糙度进行预测。既提高了数据分析的精度,又保障了数据分析的可靠性,提高了数据分析的效率和稳定性。
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公开(公告)号:CN115477899B
公开(公告)日:2023-09-08
申请号:CN202210918974.2
申请日:2022-07-29
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种氮化镓化学机械抛光液技术领域,尤其涉及氧化还原电位机理的化学作用技术领域,包括如下步骤:步骤S1:纯水中加入质量百分比m1的氧化还原电位调节剂;步骤S2:加入质量百分比m2的研磨颗粒,并缓慢加入质量百分比为m3的无水乙二胺;步骤S3:用氢氟酸和谷氨酸调节抛光液PH值。
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公开(公告)号:CN116276556A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202310510980.9
申请日:2023-05-08
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
Abstract: 本发明涉及玻璃磨床技术领域,具体为一种自动上下料的多工位玻璃磨床,包括底座以及安装在底座表面的机台壳体,所述底座的一侧设置有上下料机构,所述底座的内部固定有大面打磨机构,该大面打磨机构是由转台组件和驱动组件组成,所述机台壳体顶部且位于大面打磨机构的正上方连接有用于研磨抛光的凸台面打磨机构,且凸台面打磨机构的表面连接有用于感应压力的检测机构;所述机台壳体的表面且位于凸台面打磨机构的外侧设置有四组能够使产品转动的自转机构。本发明不仅解决了长期存留于产品表面的液体产生瘢痕现象,避免了下次取料时对产品造成痕迹,而且保证了大面与凸台面在同一压力下的切削力及移除量。
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公开(公告)号:CN118782171A
公开(公告)日:2024-10-15
申请号:CN202410981445.6
申请日:2024-07-22
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
IPC: G16C20/20 , G01N21/3577 , G01N21/3581 , G16C20/70 , G06N3/0464 , G06F18/15 , G06F18/22 , G06F18/2135 , G06F18/214 , G06N3/0985
Abstract: 本申请的实施例提供了抛光液成分校正模型构建方法、抛光液成分校正方法和装置,通过收集光谱数据x,其中包括样本序号和相应的光谱信息,光谱信息包含水性成分、油性成分和固体成分波长信息和波峰强度;收集成分含量y,其中包括样本的序号以及对应的成分含量,成分含量包含水性成分含量、油性成分含量和固体成分含量;进行数据预处理,使用一维卷积神经网络建立光谱数据与成分含量之间的关系模型;将模型得出的结果与传统称量方法得出的结果进行对比,以评估和提高准确率。通过高效的数据处理和模型训练流程,快速获得预测结果,适用于抛光液工业生产中的实时监控和质量控制。
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公开(公告)号:CN118617302A
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202410804083.3
申请日:2024-06-20
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
Abstract: 本发明涉及抛光设备技术领域,并具体公开了一种提高精度的自适应抛光机构,所公开的提高精度的自适应抛光机构包括料台、研磨盘和供料管,所述料台上设置有多个沿其周向分布的容置槽,所述研磨盘设于所述料台的上方,且所述研磨盘具有朝向所述料台的研磨面,所述供料管设于所述料台的中部,多个所述容置槽环绕所述供料管,所述供料管的凸出于所述料台表面的部分设置有喷孔,所述喷孔的高度低于所述研磨盘的研磨面,且所述喷孔的喷射方向朝向所述研磨面,使经所述喷孔喷出的研磨料能够流经所述研磨面至研磨区域;上述方案中,通过将研磨料的供料管设于料台的中部,使研磨料由料台的中部向四周扩散,能够使流入研磨区域的研磨料充分且均匀,从而提高对物料研磨的研磨精度。
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公开(公告)号:CN115477899A
公开(公告)日:2022-12-16
申请号:CN202210918974.2
申请日:2022-07-29
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种氮化镓化学机械抛光液技术领域,尤其涉及氧化还原电位机理的化学作用技术领域,包括如下步骤:步骤S1:纯水中加入质量百分比m1的氧化还原电位调节剂;步骤S2:加入质量百分比m2的研磨颗粒,并缓慢加入质量百分比为m3的无水乙二胺;步骤S3:用氢氟酸和谷氨酸调节抛光液PH值。
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公开(公告)号:CN116985021B
公开(公告)日:2024-07-12
申请号:CN202311253979.9
申请日:2023-09-27
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
IPC: B24B29/02 , G06F17/18 , G06F18/214 , G06F18/27 , G06N20/00 , B24B27/02 , B24B49/12 , B24B1/00 , B24B41/06 , G01N1/32 , B24B49/00 , B24B49/16
Abstract: 本发明涉及基于抛光机和计算机技术领域,尤其涉及在抛光过程中动态实时测量,本发明提供一种智能抛光装置和方法,包括:初始化设备,将抛光样品放置与样品抛光台,录入被测样品信息,调控样品抛光面在二维平面位置,拟合样品抛光面边界,获得轮廓闭合曲线函数f(x,y)=0;定义曲线函数f(x,y)在抛光面边界范围R内;利用格林公式计算样品的面积s;获得样品抛光面粗糙度分布的差异;建立抛光预测模型,计算控制误差e=Rt'‑Rt;对模型进行修正:Rt''=Rt+KP*e+KI*∫edt;比较Rt''与目标函数Rt(t),调整mt或Ft,直到达到预设阈值ε;在样品粗糙度达到设定指标,停止抛光,记录Rt、抛光参数关系,绘制Rt‑t实验曲线。
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公开(公告)号:CN116985021A
公开(公告)日:2023-11-03
申请号:CN202311253979.9
申请日:2023-09-27
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
IPC: B24B29/02 , G06F17/18 , G06F18/214 , G06F18/27 , G06N20/00 , B24B27/02 , B24B49/12 , B24B1/00 , B24B41/06 , G01N1/32 , B24B49/00 , B24B49/16
Abstract: 本发明涉及基于抛光机和计算机技术领域,尤其涉及在抛光过程中动态实时测量,本发明提供一种智能抛光装置和方法,包括:初始化设备,将抛光样品放置与样品抛光台,录入被测样品信息,调控样品抛光面在二维平面位置,拟合样品抛光面边界,获得轮廓闭合曲线函数f(x,y)=0;定义曲线函数f(x,y)在抛光面边界范围R内;利用格林公式计算样品的面积s;获得样品抛光面粗糙度分布的差异;建立抛光预测模型,计算控制误差e=Rt'‑Rt;对模型进行修正:Rt''=Rt+KP*e+KI*∫edt;比较Rt''与目标函数Rt(t),调整mt或Ft,直到达到预设阈值ε;在样品粗糙度达到设定指标,停止抛光,记录Rt、抛光参数关系,绘制Rt‑t实验曲线。
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公开(公告)号:CN115179204B
公开(公告)日:2024-07-30
申请号:CN202210925826.3
申请日:2022-08-03
Applicant: 深圳市永霖科技有限公司
Abstract: 本申请涉及砂轮制备技术领域,具体公开了一种树脂砂轮及其制备方法。本申请的树脂砂轮,主要由磨料、结合剂、填料、添加剂组成,填料主要由如下原料制成:半水石膏粉、铝矾土、聚酰胺蜡微粉、陶瓷粉末、粘结剂;制备方法,包括如下步骤:(1)混合物A制备:将磨料、结合剂混合,得到混合物A;(2)混合物B制备:将填料、添加剂、步骤(1)制得的混合物A混合,得到混合物B;(3)压制成型:将混合物B放入模具中进行压制、干燥、硬化,即得树脂砂轮毛坯体;(4)制孔:在树脂砂轮毛坯体上开设平面孔,即得。本申请制得的树脂砂轮散热性好,耐磨性较佳。
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