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公开(公告)号：CN118400855A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410835847.5
申请日：2024-06-26
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种等离子体产生装置和等离子体处理设备，涉及等离子体技术领域，其中，双电极等离子体产生装置包括：等离子体产生主体，所述等离子体产生主体包括进气通道、扩散组件和电极组件，所述进气通道具有进气口和出气口；所述电极组件、所述扩散组件沿第一方向依次设于所述进气通道内；所述电极组件，用于对流过的工艺气体进行电离以产生等离子体；所述扩散组件，用于对被电离后的工艺气体进行扩散。本发明提供的一种等离子体产生装置能够提高经电离得到等离子体的均匀一致性。
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公开(公告)号：CN118055571A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202410179673.1
申请日：2024-02-18
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
IPC分类号： H05K3/02
摘要： 本发明公开一种刻蚀容器，包括容器本体和电极组件，容器本体具有用于安设待刻蚀电路板的刻蚀腔，刻蚀腔具有相对的第一内侧壁和第二内侧壁；电极组件包括第一电极和第二电极，第一电极设于刻蚀腔内且靠近第一内侧壁设置，第二电极设于刻蚀腔内且靠近第二内侧壁设置；第一内侧壁和第二内侧壁分别设置有第一绝缘层。通过这样的设置使得第一电极和第二电极在通过切换电路的方式投入使用时，第一内侧壁和第二内侧壁的设置可防止第一电极和第二电极通过容器本体出现接地短路或漏电的情况。
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公开(公告)号：CN117894663A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202410179674.6
申请日：2024-02-18
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明公开一种等离子体刻蚀装置，包括：壳体组件，所述壳体组件内形成有腔体；扩散板，所述扩散板设置在所述腔体内，将所述腔体分隔成电离腔和刻蚀腔，所述扩散板上设有多个气孔，多个所述气孔连通所述电离腔和所述刻蚀腔；电离组件，所述电离组件包括间隔设于所述电离腔内的第一电极和第二电极；气源，所述气源通过气体通路与所述电离腔连通，用于向所述电离腔内输出气体；调节组件，所述调节组件设置在所述气体通路上，用于调节经所述气体通路流向所述电离腔的气体流量大小。本发明技术方案能提高刻蚀腔中等离子体的均匀性，改善等离子体刻蚀装置刻蚀电路板的均匀性，提高刻蚀质量。
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公开(公告)号：CN118555725A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410835839.0
申请日：2024-06-26
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种扩散组件和等离子体发生装置，涉及等离子体处理技术领域，其中，扩散组件包括壳体，所述壳体具有扩散通道，所述扩散通道具有进气口和出气口；扩散部，所述扩散部包括第一扩散板和第二扩散板，所述第一扩散板和所述第二扩散板间隔设于所述扩散通道，并沿所述进气口朝向所述出气口方向依次设置；可调组件，所述可调组件连接所述第一扩散板和/或所述第二扩散板，所述可调组件用于调节所述第一扩散板与所述第二扩散板之间的距离；本发明提供的技术方案的技术效果为可调组件驱动第一扩散板和第二扩散板其中一者靠近或远离另一者，从而调节第一扩散板和第二扩散板之间的距离，进而调节工艺气体或等离子体的输送速度。
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公开(公告)号：CN118400856A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410835853.0
申请日：2024-06-26
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种等离子体产生装置和等离子体处理设备，涉及等离子体技术领域，其中，气体扩散模块，包括：第一壳体，所述第一壳体具有第一进气口、第一出气口以及扩散腔；第一扩散板，所述第一扩散板上设有多个第一扩散孔；第二扩散板，所述第二扩散板上设有多个第二扩散孔；所述第一扩散板和所述第二扩散板沿所述第一进气口至所述第一出气口方向依次设置在所述扩散腔内；本发明提供的气体扩散模块能够提高工艺气体的均匀性。
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公开(公告)号：CN118399742A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410724249.0
申请日：2024-02-18
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要： 本申请涉及等离子体刻蚀电路及装置，其中，等离子体刻蚀电路包括：电源电路，所述电源电路用于产生高频电磁场；极性变换电路，所述极性变换电路具有输入端、第一输出端和第二输出端，所述极性变换电路的输入端与所述电源的输出端连接，所述极性变换电路的第一输出端与第一电极电连接，所述极性变换电路的第二输出端与第二电极电连接，所述极性变换电路用于周期性变换输出至所述第一电极和第二电极的电源极性。本发明技术方案通过电源极性的周期性变换，以使刻蚀腔室中的等离子体的扩散方向从单向变为双向，从而使蚀刻效率更高，且刻蚀腔室内的各电路板刻蚀均匀，蚀刻效果较好。
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公开(公告)号：CN117728673A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202410179676.5
申请日：2024-02-18
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要： 本申请涉及等离子体刻蚀电路及装置，其中，等离子体刻蚀电路包括：电源电路，所述电源电路用于产生高频电磁场；极性变换电路，所述极性变换电路具有输入端、第一输出端和第二输出端，所述极性变换电路的输入端与所述电源的输出端连接，所述极性变换电路的第一输出端与第一电极电连接，所述极性变换电路的第二输出端与第二电极电连接，所述极性变换电路用于周期性变换输出至所述第一电极和第二电极的电源极性。本发明技术方案通过电源极性的周期性变换，以使刻蚀腔室中的等离子体的扩散方向从单向变为双向，从而使蚀刻效率更高，且刻蚀腔室内的各电路板刻蚀均匀，蚀刻效果较好。
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公开(公告)号：CN118398468A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410835833.3
申请日：2024-06-26
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
IPC分类号： H01J37/32 , H01J37/244 , H01J37/24 , H01L21/67
摘要： 本申请公开了一种等离子体处理设备的控制方法、控制装置及处理设备，涉及等离子体处理技术领域，公开了等离子体处理设备的控制方法，所述等离子体处理设备包括电源电路和等离子体发生器，所述电源电路用于为所述等离子体发生器供电，所述的控制方法包括：获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度；根据第一等离子体浓度和预设等离子体浓度，调节对应的电源电路的输出功率。本申请通过获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度，并将第一等离子体浓度和预设等离子体浓度进行比对，最后调节对应的电源电路的输出功率，从而实现在等离子体处理过程中，精准调控等离子体能量，能够自适应调整，从而使等离子体的表面处理过程更加稳定可靠。
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公开(公告)号：CN118380249A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410835844.1
申请日：2024-06-26
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种射频变压器、电离组件及等离子体产生装置，涉及等离子体技术领域。其中，射频变压器包括初级线圈，以及与初级线圈相耦合且同轴设置的次级线圈；初级线圈用于接入外部射频电源或外部阻抗匹配器，并通过互感在次级线圈中产生感应电势；初级线圈与次级线圈由中空金属管绕制而成，内部可通过循环冷却水进行冷却。在电离组件和等离子体产生装置中，该射频变压器用于周期性变换第一电极和第二电极的极性，以使第一电极和第二电极之间产生射频电场，用于将工艺气体电离为等离子体。本发明提供的射频变压器悬空不接地，且线圈内部中空可供水冷循环，提升了系统的安全性和稳定性。
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公开(公告)号：CN117915536A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202410179672.7
申请日：2024-02-18
申请人： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
IPC分类号： H05H1/24
摘要： 本申请涉及模块化等离子体产生装置及等离子体刻蚀设备，所述模块化等离子体产生装置包括：气源装置，所述气源装置的输出端用于输出气体；等离子体组件，所述气源装置通过组装件与所述等离子体组件连接于一体，所述等离子体组件用于将所述气源输出的气体进行等离子体化，以生成等离子体。本发明技术方案采用气源装置输出气体，并通过组装件与所述等离子体组件连接于一体，再通过等离子体组件将所述气源输出的气体进行等离子体化，以生成等离子体，通过将等离子体产生装置模块化，以便于用户快速置换，有效提升开发效率，且成本较低。
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