一种用于半导体外延系统的双环式基座

    公开(公告)号:CN110943029A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201911389225.X

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明设计半导体外延设备领域,尤其涉及一种用于半导体外延系统的双环式基座。包括内环基座,内环基座主体为圆盘结构,圆盘结构下端面设有一个同轴的凸台;外环基座为圆环形结构,外环基座内缘设有台阶,内环基座上的凸台与外环基座内缘的台阶形状相匹配,使得内环基座嵌设于外环基座内;内环基座下端面通过内环支撑装置连接升降机构;外环基座下端面通过外环支撑装置连接旋转机构。本发明使衬底安放动作平稳,减少衬底安放过程中的晃动和碰撞,提高衬底安放的准确性;由外环基座带动内环基座所形成的同步匀速旋转的结构,使得衬底在加热光源的加热过程中匀速旋转,使衬底的外延生长更加均匀,同时可保证非加工面的光滑平整。

    用于半导体外延系统的双环式基座

    公开(公告)号:CN211455666U

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201922423537.X

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本实用新型设计半导体外延设备领域,尤其涉及一种用于半导体外延系统的双环式基座。包括内环基座,内环基座主体为圆盘结构,圆盘结构下端面设有一个同轴的凸台;外环基座为圆环形结构,外环基座内缘设有台阶,内环基座上的凸台与外环基座内缘的台阶形状相匹配,使得内环基座嵌设于外环基座内;内环基座下端面通过内环支撑装置连接升降机构;外环基座下端面通过外环支撑装置连接旋转机构。本实用新型使衬底安放动作平稳,减少衬底安放过程中的晃动和碰撞,提高衬底安放的准确性;由外环基座带动内环基座所形成的同步匀速旋转的结构,使得衬底在加热光源的加热过程中匀速旋转,使衬底的外延生长更加均匀,同时可保证非加工面的光滑平整。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种用于反应室的晶片传动装置

    公开(公告)号:CN211455662U

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201922123814.5

    申请日:2019-12-02

    Abstract: 本实用新型涉及半导体制造设备技术领域,具体涉及一种用于反应室的晶片传动装置。包括均为内部中空的方形腔体结构的反应室与搬运室,二者之间通过闸阀连通,反应室内设有晶片支撑部件,搬运室内设有机械传送部件;晶片支撑部件包括内环基座和外环基座;内环基座主体为圆盘,圆盘下端面设有同心凸台,内环基座整体纵向横截面呈T型;外环基座呈圆环型,外环基座的内圈为台阶状,内圈台阶尺寸与内环基座外缘尺寸相适配,内环基座嵌设于外环基座内。内环基座下方设有内环支撑架,内环支撑架与升降机构相连;外环基座下方设有外环支撑架,外环支撑架与旋转机构相连。本实用新型操作简单,传送稳定性更好,掉片率更低,满足不同尺寸的晶片的传送需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种基座用轴传动装置

    公开(公告)号:CN211320080U

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202020047989.2

    申请日:2020-01-10

    Abstract: 本实用新型涉及半导体制造设备技术领域,尤其涉及硅外延生长设备的一种基座用轴传动装置。包括旋转机构、调整机构、升降机构、内轴和外轴;内轴和外轴为圆管状,内轴套在外轴内。磁流体内旋转轴外设有磁流体外环;磁流体内旋转轴上耦接旋转驱动器,带动磁流体的内旋转轴及外轴旋转;升降机构耦接内轴,升降机构包括上下驱动器和内轴固定板,上下驱动器固定端耦接固定在磁流体的内旋转轴上;上下驱动器的运动端与内轴固定板固定连接,内轴底部外套设有波纹管,波纹管件上端固定在外轴底端,下端固定在内轴固定板上。本实用新型通过该结构,可实现外轴及内轴同时旋转,及内轴的可升降功能。

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