公开(公告)号：CN1861607A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200610050671.4

申请日：2006-05-10

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 高建荣 ,  项斌 ,  戈乔华 ,  贾建洪 ,  盛卫坚 ,  程水良

IPC: C07D498/20 ,  C09K11/06

Abstract: 本发明涉及一种荧烷类衍生物，特别是含噁二唑侧链的荧烷类衍生物，如式(I)所示，其中，R1、R2各自为C1～C10的链烷基、苯基或有取代基的苯基，所述的取代基为C1～C10的链烷基、硝基、卤素。所述的荧烷类衍生物在有机电致发光材料、有机三阶非线性光学材料、压、热敏染料功能色素材料合成中的应用。本发明所提供的荧烷类衍生物制备工艺操作条件简单、易控制、产品的后处理方便、收率较高，是一条易工业化的工艺路线。

公开(公告)号：CN100360537C

公开(公告)日：2008-01-09

申请号：CN200610050671.4

申请日：2006-05-10

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 高建荣 ,  项斌 ,  戈乔华 ,  贾建洪 ,  盛卫坚 ,  程水良

IPC: C07D493/10 ,  C09K11/06

Abstract: 本发明涉及一种荧烷类衍生物，特别是含噁二唑侧链的荧烷类衍生物，如式(Ⅰ)所示，其中，R1、R2各自为C1～C10的链烷基、苯基或有取代基的苯基，所述的取代基为C1～C10的链烷基、硝基、卤素。所述的荧烷类衍生物在有机电致发光材料、有机三阶非线性光学材料、压、热敏染料功能色素材料合成中的应用。本发明所提供的荧烷类衍生物制备工艺操作条件简单、易控制、产品的后处理方便、收率较高，是一条易工业化的工艺路线。