高精度球体加工设备的球体输送机构

    公开(公告)号:CN104128876B

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201410317895.1

    申请日:2014-07-04

    Abstract: 一种高精度球体加工设备的球体输送机构,包括支架、上自由滚道、下自由滚道、外侧螺旋滚道、芯轴和刮板,芯轴与用于带动芯轴转动的上料驱动机构连接,芯轴的外圈等圆弧间隔布置刮板,相邻刮板之间的间隙比待输送球体大,外侧螺旋滚道自上而下布置,外侧螺旋滚道附着于刮板外侧面,相邻刮板的间隙和外侧螺旋滚道形成供球体放置的输送工位,上自由滚道、下自由滚道成倾斜布置,外侧螺旋滚道的上端与上自由滚道的上端连接,上自由滚道的下端为球体输送机构的出口,外侧螺旋滚道的下端与下自由滚道的下端连接,下自由滚道的上端为球体输送机构的进口。本发明实现球体循环加工功能、加工效率较高、加工路径控制准确性较好、加工一致性良好。

    高精度球体循环研磨加工设备

    公开(公告)号:CN104128877B

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201410317911.7

    申请日:2014-07-04

    Abstract: 一种高精度球体循环研磨加工设备,包括机架,机架上安装下研磨盘和上研磨盘,上研磨盘的上端与加压装置连接,下研磨盘安装在研磨盘主轴上,研磨盘主轴与研磨驱动机构连接,下研磨盘的加工面上开有连续加工沟槽,连续加工沟槽的起点为下研磨盘的圆心,连续加工沟槽的终点为下研磨盘的外边缘,下研磨盘的下部设置旋转架,旋转架的一圈开有环形凹槽,环形凹槽的开口位于上研磨盘的外边缘的下方,旋转架的底部布置挡板,挡板上开有一个供球体落下的落料孔,落料孔与球体输送机构的进口连接,球体输送机构的出口与上研磨盘的中央通孔连接,旋转架与旋转驱动机构连接。本发明加工效率较高、加工路径控制准确性较好、加工一致性良好。

    基于介电泳效应的定偏心式研磨/抛光设备

    公开(公告)号:CN103433832A

    公开(公告)日:2013-12-11

    申请号:CN201310332914.3

    申请日:2013-08-01

    Abstract: 一种基于介电泳效应的定偏心研磨/抛光设备,包括机架、安装在机架上的抛光盘、工件夹具和抛光液输入器,所述工件夹具置于所述的抛光盘上方,待抛光的工件装夹在所述的工件夹具的底面,所述抛光盘安装在驱动主轴上,所述驱动主轴与驱动电机连接,所述的抛光盘上安装第一电极板,所述第一电极板与交流电源的第一引出端连接,所述工件夹具上安装第二电极板,所述第二电极板与所述交流电源的第二引出端连接;所述的交流电源的电流输入端与用于控制所述的交流电源的电压与频率的调频调压控制器连接。本发明有效减缓抛光液和磨粒受离心力作用从加工区域甩出问题、抛光液在加工区域分布较均匀、提升抛光效率、提高抛光精度。

    高精度球体循环研磨加工设备

    公开(公告)号:CN104128877A

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201410317911.7

    申请日:2014-07-04

    CPC classification number: B24B37/025 B24B37/27 B24B37/34

    Abstract: 一种高精度球体循环研磨加工设备,包括机架,机架上安装下研磨盘和上研磨盘,上研磨盘的上端与加压装置连接,下研磨盘安装在研磨盘主轴上,研磨盘主轴与研磨驱动机构连接,下研磨盘的加工面上开有连续加工沟槽,连续加工沟槽的起点为下研磨盘的圆心,连续加工沟槽的终点为下研磨盘的外边缘,下研磨盘的下部设置旋转架,旋转架的一圈开有环形凹槽,环形凹槽的开口位于上研磨盘的外边缘的下方,旋转架的底部布置挡板,挡板上开有一个供球体落下的落料孔,落料孔与球体输送机构的进口连接,球体输送机构的出口与上研磨盘的中央通孔连接,旋转架与旋转驱动机构连接。本发明加工效率较高、加工路径控制准确性较好、加工一致性良好。

    基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备

    公开(公告)号:CN103433841A

    公开(公告)日:2013-12-11

    申请号:CN201310333311.5

    申请日:2013-08-01

    Abstract: 一种基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备,包括上抛光盘、保持架和下抛光盘,所述上抛光盘位于下抛光盘上方,所述保持架位于上抛光盘与下抛光盘之间。所述的上抛光盘上安装第一电极板,所述第一电极板与交流电源的第一引出端连接,所述下抛光盘上安装第二电极板,所述第二电极板与所述交流电源的第二引出端连接;所述的交流电源的电流输入端与用于控制所述的交流电源的电压与频率的调频调压控制器连接。本发明有效减缓磨粒和抛光液受离心力作用从加工区域甩出问题、抛光液在加工区域分布较均匀、提升抛光效率、提高抛光精度。

    高精度球体加工设备的球体输送机构

    公开(公告)号:CN104128876A

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201410317895.1

    申请日:2014-07-04

    CPC classification number: B24B37/025 B24B37/345

    Abstract: 一种高精度球体加工设备的球体输送机构,包括支架、上自由滚道、下自由滚道、外侧螺旋滚道、芯轴和刮板,芯轴与用于带动芯轴转动的上料驱动机构连接,芯轴的外圈等圆弧间隔布置刮板,相邻刮板之间的间隙比待输送球体大,外侧螺旋滚道自上而下布置,外侧螺旋滚道附着于刮板外侧面,相邻刮板的间隙和外侧螺旋滚道形成供球体放置的输送工位,上自由滚道、下自由滚道成倾斜布置,外侧螺旋滚道的上端与上自由滚道的上端连接,上自由滚道的下端为球体输送机构的出口,外侧螺旋滚道的下端与下自由滚道的下端连接,下自由滚道的上端为球体输送机构的进口。本发明实现球体循环加工功能、加工效率较高、加工路径控制准确性较好、加工一致性良好。

    一种偏心式变曲率沟槽加工高精度球体的方法

    公开(公告)号:CN103991025A

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201410216546.0

    申请日:2014-05-21

    CPC classification number: B24B37/025 B24B37/16 B24B37/34

    Abstract: 一种偏心式变曲率沟槽加工高精度球体的方法,实现方法的加工装置包括上研磨盘、下研磨盘和加压系统,上研磨盘连接上研磨盘主轴,下研磨盘连接下研磨盘主轴,上研磨盘主轴和下研磨盘主轴分别与驱动机构连接,上研磨盘位于下研磨盘的正上方,加载系统位于上研磨盘上,所述的下研磨盘上开有变曲率轨迹的沟槽,所述的变曲率轨迹的中心与研磨盘中心存在偏心;所述的加压系统通过上研磨盘作用于球坯,所述的沟槽结构和上研磨盘一起构成研磨球的三个加工接触点,加工过程中待加工球坯在上、下研磨盘之间且于沟槽内运动。本发明提供一种既能实现较高的加工精度、加工效率和加工一致性,又具备加工装置结构简单、制造成本较低的偏心式变曲率沟槽加工高精度球体的方法。

    一种轴偏心式变曲率沟槽加工高精度球体的装置

    公开(公告)号:CN103991017A

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201410217736.4

    申请日:2014-05-21

    CPC classification number: B24B37/025 B24B37/16 B24B37/34

    Abstract: 一种轴偏心式变曲率沟槽加工高精度球体的装置,包括机架、上研磨盘、下研磨盘和加载系统,上研磨盘连接上研磨盘主轴,下研磨盘连接下研磨盘主轴,上研磨盘主轴和下研磨盘主轴分别与驱动机构连接,上研磨盘位于下研磨盘的正上方,加载系统位于上研磨盘上,上研磨盘主轴与下研磨盘主轴偏心,上研磨盘的中心开有球体入口,下研磨盘的顶面开设变曲率轨迹的沟槽,球体入口的下端与沟槽的入口连通,循环输球装置的入口与沟槽的出口相连,循环输球装置的出口与球体入口的上端相连。本发明加工精度与加工效率、加工一致性高,同时结构简单,加工和装配的精度要求低。

    一种应用于球体加工的循环送料装置

    公开(公告)号:CN104742011B

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201510143782.9

    申请日:2015-03-30

    Abstract: 一种应用于球体加工的循环送料装置,包括机架、进球管道和出球管道,所述送料装置还包括输球机构和套筒,所述输球机构位于套筒内,所述套筒固定在所述机架上,所述输球机构与用于带动输球机构转动的驱动机构连接,所述输球机构的外壁上带有螺旋上升的沟槽,所述套筒的内筒壁上带有竖直滚道,所述竖直滚道与沟槽之间留有一个球滚动的空间,所述带有竖直滚道的套筒上有进球口和出球口,所述进球口与所述竖直滚道的下端相接,所述出球口与所述竖直滚道的上端相接,所述进球口与所述出球管道的出球端连接,所述出球口与所述进球管道的进球端连接。本发明有效避免相邻球之间存在碰撞的问题、提升加工一致性、提高加工效率。

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