公开(公告)号：CN117784532A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202311794572.7

申请日：2023-12-25

Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心

Inventor： 卞殷旭 ,  孙伯文 ,  匡翠方 ,  卢俊一 ,  潘杭凯 ,  刘旭 ,  李海峰

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种大面积相位型计算全息图的制备系统和制备方法。本发明大面积相位型计算全息图的制备方法通过设计搭建了一种大面积相位型计算全息图的制备系统，通过光刻胶激发光路中微镜阵列和微透镜阵列的设计使用，产生万束激光并行刻写，实现100mm/s的等效刻写速度，每个光束的横向最小特征尺寸达到50nm，能够实现刻写制造大面积相位型计算全息图。设计的大面积相位型计算全息图采用类光子筛结构，与传统波带片形式的计算全息图相比，能够大幅度提升面型检测的精确度，实现极紫外光刻物镜的高精度非球面面形检测。

公开(公告)号：CN117289563B

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202311592943.3

申请日：2023-11-27

Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心

Inventor： 卞殷旭 ,  潘杭凯 ,  匡翠方 ,  卢俊一 ,  孙伯文 ,  刘旭 ,  李海峰

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种振幅型计算全息图实现装置及方法。本发明利用边缘光抑制的超分辨激光直写实现用于极紫外光刻物镜装调的大面积振幅型计算全息图克服了激光直写技术刻写精度的不足，对比电子束直写有着更高的效率，有着操作简便、成本低廉等优势。通过补偿模块在刻写中实时进行光功率与相位调制补偿，保证了刻写系统在刻写大面积振幅型计算全息图长时间工作的稳定性与刻写精度。

公开(公告)号：CN118778380B

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202411280459.1

申请日：2024-09-13

Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心

Inventor： 匡翠方 ,  孙伯文 ,  刘天棋 ,  徐良 ,  刘旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法，该装置通过对微透镜阵列和数字微镜阵列的协同调控得到强度均一的焦点阵列，还通过像旋模块控制并行直写光斑阵列的旋向角度，通过控制旋向角度和刻线间距实现高精度的灰度刻写。该方法能够根据实际的灰度刻写需求调整设备的刻写策略，且刻写曝光过程位移台仅需保持匀速扫描，节省了平台重复加减速的时间，同时充分利用了飞秒激光光斑的入瞳能量，使得该方法兼具高通量大面积与2.5D高精度灰度刻写的优势，具有广阔的应用前景。

公开(公告)号：CN117289563A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202311592943.3

申请日：2023-11-27

Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心

Inventor： 卞殷旭 ,  潘杭凯 ,  匡翠方 ,  卢俊一 ,  孙伯文 ,  刘旭 ,  李海峰

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种振幅型计算全息图实现装置及方法。本发明利用边缘光抑制的超分辨激光直写实现用于极紫外光刻物镜装调的大面积振幅型计算全息图克服了激光直写技术刻写精度的不足，对比电子束直写有着更高的效率，有着操作简便、成本低廉等优势。通过补偿模块在刻写中实时进行光功率与相位调制补偿，保证了刻写系统在刻写大面积振幅型计算全息图长时间工作的稳定性与刻写精度。

公开(公告)号：CN118778380A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202411280459.1

申请日：2024-09-13

Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心

Inventor： 匡翠方 ,  孙伯文 ,  刘天棋 ,  徐良 ,  刘旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法，该装置通过对微透镜阵列和数字微镜阵列的协同调控得到强度均一的焦点阵列，还通过像旋模块控制并行直写光斑阵列的旋向角度，通过控制旋向角度和刻线间距实现高精度的灰度刻写。该方法能够根据实际的灰度刻写需求调整设备的刻写策略，且刻写曝光过程位移台仅需保持匀速扫描，节省了平台重复加减速的时间，同时充分利用了飞秒激光光斑的入瞳能量，使得该方法兼具高通量大面积与2.5D高精度灰度刻写的优势，具有广阔的应用前景。