一种硅片边缘检测装置及方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117410193A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202311087540.3

    申请日:2023-08-28

    Abstract: 本发明公开了一种硅片边缘检测方法,包括以下步骤:S1:硅片上料至上料工位,控制端确认并调用当前硅片的尺寸信息、边缘类型;S2:硅片移动至第一检测工位,第一光源提供打光,第一摄像头采集硅片的灰度图像上传至控制端。本发明采用的检测方法,能够灵活地区分检测不同硅片的尺寸类型,并根据边缘类型采用相应的光源,能适用多种类型的硅片检测,适用性强;采用的视觉定位方法配合位置角度修正,能够极大提高检测中的定位效率和准确度;通过采集图像进行边缘查找,拟合内外边缘线并计算间距的方式,替代人眼观察和辅助画线测量,使测量结果的准确度和效率大大提高,单硅片多点位的检测也能够快速准确地完成。

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