一种蒸镀装置及方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110029311B

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN201910252176.9

    申请日:2019-03-29

    IPC分类号: C23C14/24 C23C14/54

    摘要: 本发明涉及一种蒸镀装置及方法,属于真空蒸镀技术领域,解决了现有技术中蒸镀材料利用率低、镀层附着力小以及无法精确控制膜厚的问题。蒸镀装置,包括蒸镀腔、熔融单元、蒸气输送单元和喷射单元,从熔融腔至喷射腔方向,蒸气腔的横截面面积逐渐减小;喷嘴设有开口大小可调节的喷气口,喷气口用于向试样镀膜;蒸气腔顶部的横截面面积大于喷气口处的横截面面积。蒸镀方法包括:将待镀试样固定在第一移动部底部,根据待镀试样宽度调整喷气口长度;抽真空,设置移动部的移动速度;加热蒸镀材料;蒸镀;取出试样。本发明实现了对蒸镀材料的高效利用,并且提高了镀膜的致密性。