晶圆纠偏方法及装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119786414A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411903734.0

    申请日:2024-12-23

    Abstract: 本公开提供了一种晶圆纠偏方法及装置,应用于晶圆加工技术领域,包括:获取待切割晶圆的图像,所述待切割晶圆包含若干切割道;基于获取的待切割晶圆的图像,识别确定目标切割道,并确定所述目标切割道的倾斜角度;基于确定的所述目标切割道的倾斜角度,对待切割晶圆进行纠偏处理。也即是说,通过识别确定待切割晶圆的目标切割道的倾斜角度,基于目标切割道的倾斜角度进行晶圆的纠偏处理,从而无论是以平边作为定位标记的晶圆,还是U型角或者V型角作为定位标记的晶圆,均能够实现纠偏,提升了晶圆纠偏的普适性。

    一种基于激光改质晶圆切割的多尺度对焦系统及方法

    公开(公告)号:CN118616919A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202410899723.3

    申请日:2024-07-05

    Abstract: 本发明公开了一种基于激光改质晶圆切割的多尺度对焦系统及方法,涉及晶圆激光切割对焦技术领域,解决的是由于对焦过程中反射光斑变化快、对红外激光光束质量要求高和晶圆无法与焦平面重合,导致晶圆改质切割过程中激光无法快速精确对焦的问题;多尺度对焦系统,包括红外皮秒激光器、激光光闸、近红外聚焦物镜、成像镜筒、可见光CCD、微米级激光测距传感器、工控机、真空吸盘、电控位移平台和龙门架;通过控制电控位移平台上下移动,采集焦平面区域不同高度位置的晶圆表面MARK点图像,再通过对比图像清晰度来精准判断激光焦点与晶圆表面重合度,实现了晶圆改质切割过程中的激光快速精确多尺度对焦。

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