公开(公告)号：CN117304813A

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202311256351.4

申请日：2023-09-27

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 何彦刚 ,  李相辉 ,  王晗笑 ,  张祥龙 ,  孟妮

IPC: C09G1/02 ,  B24B57/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/762

Abstract: 本发明为去除速率选择比可调的高稳定性STI CMP抛光液，用于pH＝2‑6的酸性条件下的STI CMP中，所述抛光液按质量百分比计量包含如下：CeO2磨料：0.1wt％‑5wt％；氨基酸：0.1wt％‑4wt％；多元醇：0.5wt％‑6wt％；聚乙烯醇：0.01wt％‑1wt％；pH调节剂；余量为去离子水；所述聚乙烯醇的分子量为1万‑10万；所述氨基酸为：甘氨酸、丙氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、精氨酸、脯氨酸、吡啶甲酸、烟酸或它们衍生物中的一种或几种；所述多元醇为：D‑山梨糖醇、甘露糖醇、乳糖醇、麦芽糖醇、麦芽三糖醇、木糖醇、卫矛醇、或它们衍生物中的一种或几种。抛光液在高去除速率选择比的基础上，能够在112个月内保证抛光速率的稳定。