公开(公告)号：CN115678437A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202211380516.4

申请日：2022-11-04

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 张保国 ,  吴鹏飞 ,  王也 ,  刘世桐 ,  咸文豪 ,  崔德兴 ,  刘敏

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/321

Abstract: 本发明为一种基于双氧水体系弱酸性的钼阻挡层化学机械抛光液及其制备方法。该抛光液包括下述组分：纳米级二氧化硅溶胶固体浓度为1.0～10.0wt％；过氧化氢浓度为0.3～5.0wt％；唑类缓蚀剂的浓度为50～500ppm，余量为水，pH值为2.0‑10.0；所述唑类缓蚀剂为2，2'‑{[(甲基‑1H‑苯并三唑‑1‑基)甲基]亚氨基}双乙醇(TT‑LYK)。本发明的低技术节点铜互连钼阻挡层酸性抛光液具有钼阻挡层材料去除速率慢()和静态腐蚀速率慢(低于)且成本低廉、使用安全的特点。

公开(公告)号：CN115678437B

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202211380516.4

申请日：2022-11-04

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 张保国 ,  吴鹏飞 ,  王也 ,  刘世桐 ,  咸文豪 ,  崔德兴 ,  刘敏

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/321

Abstract: 本发明为一种基于双氧水体系弱酸性的钼阻挡层化学机械抛光液及其制备方法。该抛光液包括下述组分：纳米级二氧化硅溶胶固体浓度为1.0～10.0wt％；过氧化氢浓度为0.3～5.0wt％；唑类缓蚀剂的浓度为50～500ppm，余量为水，pH值为2.0‑10.0；所述唑类缓蚀剂为2，2'‑{[(甲基‑1H‑苯并三唑‑1‑基)甲基]亚氨基}双乙醇(TT‑LYK)。本发明的低技术节点铜互连钼阻挡层酸性抛光液具有钼阻挡层材料去除速率慢()和静态腐蚀速率慢( 低于 )且成本低廉、使用安全的特点。