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公开(公告)号：CN110168432A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201780064815.8
申请日：2017-10-20
Applicant: 汤姆逊许可公司
IPC: G02B27/42
Abstract: 一种用于由入射在设备上的电磁波在近场区中形成至少一个聚焦束的设备，其特征在于它包括：至少部分地包括至少一个腔的至少一个介电材料层，该至少一个腔填充有折射指数小于介电材料的折射指数的介质。该至少一个腔的目标为圆柱形或锥形，并且包括相对于电磁波的到达方向限定的至少一个底表面和至少一个侧表面。该至少一个底表面由具有新月形状的底边缘线描绘，该底边缘线包括凹底边缘线段和凸底边缘线段，该底边缘线形状和/或取向和/或该至少一个底表面与该至少一个侧面之间的相关联的底角控制至少一个聚焦束在与电磁波的到达方向正交并且包括至少一个底表面的至少一部分的平面上的投影的角位置，其称为方位角。
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公开(公告)号：CN110140216A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201780081577.1
申请日：2017-12-27
Applicant: 汤姆逊许可公司
IPC: H01L27/146 , G02B27/56 , B82Y20/00
Abstract: 本公开涉及一种图像传感器，该图像传感器包括至少一个感测单元，所述至少一个感测单元包括用于将光转换为可读电信号的装置。图像传感器的显著之处在于，所述至少一个感测单元包括导光装置，该导光装置用于将光引导到所述用于将光转换为可读电信号的装置的方向上，所述导光装置包括：至少一个介电材料层，具有第一折射率，该至少一个介电材料层的表面具有形成台阶的至少一个突然的水平变化，以及元件，具有低于所述第一折射率的第二折射率，所述元件与所述台阶接触。
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公开(公告)号：CN109891318A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201780065057.1
申请日：2017-10-20
Applicant: 汤姆逊许可公司
Abstract: 在本公开的一个实施例中，提出了一种用于在光致抗蚀剂衬底上生成结构的光刻设备，光刻设备包括光照单元和光掩模。光掩模的显著之处在于它包括至少一个电介质材料层和折射率低于所述电介质材料的折射率的介质，其中，该至少一个电介质材料层的表面具有形成台阶的至少一个突然的水平变化，并且其中，至少所述表面相对于所述台阶和来自所述光照单元的电磁波的传播方向的基部和侧部与所述介质接触。
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公开(公告)号：CN108174179A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201711214075.X
申请日：2017-11-28
Applicant: 汤姆逊许可公司
IPC: H04N13/239 , H04N13/246 , H04N13/275
Abstract: 本申请涉及用于对成像设备进行建模的方法、相应的计算机程序产品以及计算机可读承载介质。成像设备包括图像传感器和光学系统，该光学系统包括限定光学系统的入瞳的孔径光阑，针对成像设备的给定配置，该方法包括以下步骤：‑估计(21)成像设备的特征特性参数的集合，该特征特性参数的集合包括：表示所述像面与相对于光学系统与图像传感器共轭的传感器共轭平面之间的距离的第一特性参数、表示传感器共轭平面与入瞳之间的距离的第二特性参数、表示光学系统的放大率的第三特性参数；‑确定(22)分别作为第一和第三特性参数以及第二和第三特性参数的函数的第一和第二建模数据；‑建立(23)作为第二和第三建模数据的函数的成像设备的模型。
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公开(公告)号：CN109844579A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780065092.3
申请日：2017-10-20
Applicant: 汤姆逊许可公司
IPC: G02B5/20
Abstract: 一种用于屏蔽至少一个亚波长尺度物体(10)免受电磁波(20)的设备，该电磁波(20)入射在所述设备上，所述设备包括至少一层介电材料(介质1)，其表面具有形成台阶的至少一个突然的水平变化。至少所述表面的相对于所述台阶下部和侧部与折射指数(n2)小于所述介电材料的折射指数(n1)的介质(111)接触。所述至少一个亚波长尺度物体(10)位于电磁场强度小于阈值的静区(QZ)中，所述静区沿着所述电磁波(20)的入射方向在所述台阶附近的所述表面上方延伸。
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