使用纳米喷射微结构对电介质材料层的无粘合剂粘合

    公开(公告)号:CN111051237B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN201880056665.0

    申请日:2018-08-31

    IPC分类号: B81C3/00

    摘要: 一种粘合两个电介质材料层的方法,包括:‑为所述层中的至少一层的表面提供(21)形成所述层的接触点的微米级尺寸粘合元件和/或纳米级尺寸粘合元件;‑根据预期用途将所述层带入(22)到相互位置中;‑通过入射电磁波照射(23)表面被设置有粘合元件的所述层,入射电磁波的传播方向基本上垂直于所述层,并且入射电磁波的波长是根据形成所述层的材料的吸收光谱来选择的;‑在所述粘合元件内或靠近所述粘合元件的要与另一层接触的尖端处生成会聚光束;‑通过由所述生成的光束形成的高强度焦斑来加热和熔化(24)所述粘合元件;‑将所述层保持在所述相互位置中,直到所述层粘合。

    用于在光致抗蚀剂衬底上生成图案的光刻设备

    公开(公告)号:CN109891318A

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201780065057.1

    申请日:2017-10-20

    IPC分类号: G03F1/50 G03F7/20

    摘要: 在本公开的一个实施例中,提出了一种用于在光致抗蚀剂衬底上生成结构的光刻设备,光刻设备包括光照单元和光掩模。光掩模的显著之处在于它包括至少一个电介质材料层和折射率低于所述电介质材料的折射率的介质,其中,该至少一个电介质材料层的表面具有形成台阶的至少一个突然的水平变化,并且其中,至少所述表面相对于所述台阶和来自所述光照单元的电磁波的传播方向的基部和侧部与所述介质接触。

    屏蔽至少一个亚波长尺度物体免受入射电磁波的设备和方法

    公开(公告)号:CN109844579A

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201780065092.3

    申请日:2017-10-20

    IPC分类号: G02B5/20

    摘要: 一种用于屏蔽至少一个亚波长尺度物体(10)免受电磁波(20)的设备,该电磁波(20)入射在所述设备上,所述设备包括至少一层介电材料(介质1),其表面具有形成台阶的至少一个突然的水平变化。至少所述表面的相对于所述台阶下部和侧部与折射指数(n2)小于所述介电材料的折射指数(n1)的介质(111)接触。所述至少一个亚波长尺度物体(10)位于电磁场强度小于阈值的静区(QZ)中,所述静区沿着所述电磁波(20)的入射方向在所述台阶附近的所述表面上方延伸。

    使用纳米喷射微结构对电介质材料层的无粘合剂粘合

    公开(公告)号:CN111051237A

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201880056665.0

    申请日:2018-08-31

    IPC分类号: B81C3/00

    摘要: 一种粘合两个电介质材料层的方法,包括:-为所述层中的至少一层的表面提供(21)形成所述层的接触点的微米级尺寸粘合元件和/或纳米级尺寸粘合元件;-根据预期用途将所述层带入(22)到相互位置中;-通过入射电磁波照射(23)表面被设置有粘合元件的所述层,入射电磁波的传播方向基本上垂直于所述层,并且入射电磁波的波长是根据形成所述层的材料的吸收光谱来选择的;-在所述粘合元件内或靠近所述粘合元件的要与另一层接触的尖端处生成会聚光束;-通过由所述生成的光束形成的高强度焦斑来加热和熔化(24)所述粘合元件;-将所述层保持在所述相互位置中,直到所述层粘合。