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公开(公告)号:CN104164680A
公开(公告)日:2014-11-26
申请号:CN201310533491.1
申请日:2013-11-04
Applicant: 江苏大学
IPC: C25B3/00
Abstract: 本发明涉及聚吡咯导电薄膜的制备方法,特指一种无基底支撑的导电聚吡咯薄膜的制备方法。本发明采用三电极系统,以饱和甘汞电极为参比电极,铂片电极为辅助电极,不锈钢为工作电极,采用恒电位模式进行聚合,聚合电位控制在0.6V-0.8V,聚合时间不小于60分钟,开始时聚吡咯薄膜先在不锈钢片工作电极上聚合,当不锈钢片上铺满聚吡咯薄膜后开始以不锈钢片为中心,以液面为支撑,向外铺展生长聚吡咯薄膜。采用该方法制备的聚吡咯导电薄膜,导电性能良好,无需从基底上剥离,可以方便地用于微电子器件的生产。
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公开(公告)号:CN104164680B
公开(公告)日:2017-07-18
申请号:CN201310533491.1
申请日:2013-11-04
Applicant: 江苏大学
IPC: C25B3/00
Abstract: 本发明涉及聚吡咯导电薄膜的制备方法,特指一种无基底支撑的导电聚吡咯薄膜的制备方法。本发明采用三电极系统,以饱和甘汞电极为参比电极,铂片电极为辅助电极,不锈钢为工作电极,采用恒电位模式进行聚合,聚合电位控制在0.6V‑0.8V,聚合时间不小于60分钟,开始时聚吡咯薄膜先在不锈钢片工作电极上聚合,当不锈钢片上铺满聚吡咯薄膜后开始以不锈钢片为中心,以液面为支撑,向外铺展生长聚吡咯薄膜。采用该方法制备的聚吡咯导电薄膜,导电性能良好,无需从基底上剥离,可以方便地用于微电子器件的生产。
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