公开(公告)号：CN101930930A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN200910108473.2

申请日：2009-06-26

Applicant: 比亚迪股份有限公司

Inventor： 苏丹 ,  陈学刚 ,  刘培凤

IPC: H01L21/48 ,  C23F1/02

Abstract: 本发明提供一种在氧化铟锡玻璃基板上形成铬铝铬金属走线的方法，在氧化铟锡玻璃基板上依次覆有第一铬层、铝层、第二铬层形成铬铝铬层，印刷光致抗蚀剂用于将形成铬铝铬金属走线的部分进行保护，将覆有铬铝铬层的玻璃基板至少依次与含有硝酸铈铵的铬蚀刻液蚀刻、铝蚀刻液蚀刻、含有硝酸铈铵的铬蚀刻液接触蚀刻，脱膜剂去除光致抗蚀剂，得到带有铬铝铬金属走线氧化铟锡玻璃基板。本发明的蚀刻速度较现有技术较快，同时蚀刻精度较好。

公开(公告)号：CN101930930B

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：CN200910108473.2

申请日：2009-06-26

Applicant: 比亚迪股份有限公司

Inventor： 苏丹 ,  陈学刚 ,  刘培凤

IPC: H01L21/48 ,  C23F1/02

Abstract: 本发明提供一种在氧化铟锡玻璃基板上形成铬铝铬金属走线的方法，在氧化铟锡玻璃基板上依次覆有第一铬层、铝层、第二铬层形成铬铝铬层，印刷光致抗蚀剂用于将形成铬铝铬金属走线的部分进行保护，将覆有铬铝铬层的玻璃基板至少依次与含有硝酸铈铵的铬蚀刻液蚀刻、铝蚀刻液蚀刻、含有硝酸铈铵的铬蚀刻液接触蚀刻，脱膜剂去除光致抗蚀剂，得到带有铬铝铬金属走线氧化铟锡玻璃基板。本发明的蚀刻速度较现有技术较快，同时蚀刻精度较好。