公开(公告)号：CN118605388A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202410712897.4

申请日：2024-06-04

Applicant: 武汉华中数控股份有限公司

Inventor： 吴渤 ,  王浩清 ,  王传兵 ,  高翔 ,  贾聪聪 ,  何山 ,  吴迪 ,  胡少云 ,  秦昌述 ,  范大岗

IPC: G05B19/404

Abstract: 本发明公开了一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统，该方法包括：S1.根据线性加工路径，设定拟合曲线最大逼近误差；S2.在所述线性加工路径上设置若干型值点并构成型值点集；S3.基于所述型值点集中的型值点设置控制点并构成控制点集；S4.根据所述控制点集中的若干控制点确定二次B样条曲线；S5.采用所述二次B样条曲线对线性加工路径进行拟合。本发明的算法复杂度低且能够满足线性加工路径误差可控的要求。本发明可应用在中高档数控系统中，其具备误差可控，且能实现路径局部光顺。