公开(公告)号：CN112272836B

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN201980038744.3

申请日：2019-03-11

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 江上慎 ,  笠井一希 ,  田口智博

IPC: G06Q50/10

Abstract: 实现能够追溯数据的记录的技术，由此新构筑以向进行数据前处理的运营商的对价分配为目的的竞争市场，从而能够向服务提供商提供丰富的前处理后的数据，其结果是能够向用户提供丰富的IoT服务。通过对对象数据实施一个或多个前处理来生成前处理后的数据，对所述前处理后的数据赋予与所述前处理的种类对应的前处理ID。

公开(公告)号：CN109918690A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201811057807.3

申请日：2018-09-11

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 太田雄也 ,  藤井彻 ,  江上慎 ,  鹤田浩辅 ,  高山裕贵

IPC: G06F17/50 ,  G06F17/18

Abstract: 本发明提供一种监视系统、学习装置、学习方法、监视装置及监视方法，能够准确预测在湿法蚀刻装置中产生消除斑痕的时间。本发明一方面的监视系统根据学习数据，构建对应于累计运行时间及累计处理片数的值预测去除量的值的预测模型，获取运行中的湿法蚀刻装置中的累计运行时间、累计处理片数及去除量的实际值，将获取的累计运行时间及累计处理片数各自的实际值输入预测模型，计算去除量的预测值，计算去除量的预测值和实际值之间的差值，作为表示药液更换标准的指标值，根据算出的指标值，输出与药液更换有关的信息。

公开(公告)号：CN109918690B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201811057807.3

申请日：2018-09-11

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 太田雄也 ,  藤井彻 ,  江上慎 ,  鹤田浩辅 ,  高山裕贵

IPC: G06F30/27 ,  G06F17/18

Abstract: 本发明提供一种监视系统、学习装置、学习方法、监视装置及监视方法，能够准确预测在湿法蚀刻装置中产生消除斑痕的时间。本发明一方面的监视系统根据学习数据，构建对应于累计运行时间及累计处理片数的值预测去除量的值的预测模型，获取运行中的湿法蚀刻装置中的累计运行时间、累计处理片数及去除量的实际值，将获取的累计运行时间及累计处理片数各自的实际值输入预测模型，计算去除量的预测值，计算去除量的预测值和实际值之间的差值，作为表示药液更换标准的指标值，根据算出的指标值，输出与药液更换有关的信息。

公开(公告)号：CN112272836A

公开(公告)日：2021-01-26

申请号：CN201980038744.3

申请日：2019-03-11

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 江上慎 ,  笠井一希 ,  田口智博

IPC: G06Q50/10

Abstract: 实现能够追溯数据的记录的技术，由此新构筑以向进行数据前处理的运营商的对价分配为目的的竞争市场，从而能够向服务提供商提供丰富的前处理后的数据，其结果是能够向用户提供丰富的IoT服务。通过对对象数据实施一个或多个前处理来生成前处理后的数据，对所述前处理后的数据赋予与所述前处理的种类对应的前处理ID。