公开(公告)号：CN102334070A

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：CN201080009430.X

申请日：2010-02-25

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  深谷康一郎 ,  安藤哲生

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明涉及一种曝光装置，其具备：输送机构(1)，其上表面载置被曝光体(7)并将其沿一定方向输送；空间光调制机构(3)，其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件(9)沿与被曝光体(7)的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列；光束整形机构(4)，其将从各光调制元件(9)射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度；控制机构(6)，其个别地驱动各光调制元件(9)，对空间光调制机构(3)的透射光进行接通/断开控制，生成规定的图案，各光调制元件(9)，与其光轴正交的横截面形状形成为在被曝光体(7)的输送方向长的大致长方形状，并且，相对于与所述输送方向平行的轴倾斜规定角度而形成，控制机构(6)使光束整形机构(4)沿所述输送方向移动。由此，提高利用由电光学结晶材料构成的多个光调制元件生成的图案和被曝光体的曝光位置的对位精度。

公开(公告)号：CN102334070B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN201080009430.X

申请日：2010-02-25

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  深谷康一郎 ,  安藤哲生

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明涉及一种曝光装置，其具备：输送机构(1)，其上表面载置被曝光体(7)并将其沿一定方向输送；空间光调制机构(3)，其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件(9)沿与被曝光体(7)的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列；光束整形机构(4)，其将从各光调制元件(9)射出的光的所述输送方向的宽度限制在规定宽度；控制机构(6)，其个别地驱动各光调制元件(9)，对空间光调制机构(3)的透射光进行接通/断开控制，生成规定的图案，各光调制元件(9)，与其光轴正交的横截面形状形成为在被曝光体(7)的输送方向长的大致长方形状，并且，相对于与所述输送方向平行的轴倾斜规定角度而形成，控制机构(6)使光束整形机构(4)沿所述输送方向移动。由此，提高利用由电光学结晶材料构成的多个光调制元件生成的图案和被曝光体的曝光位置的对位精度。