用于制备低聚物的设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113474079A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202080015199.9

    申请日:2020-11-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,该用于制备低聚物的设备包括:用于使包含所供应的单体的供给流低聚的反应器;插入到在反应器的上部中形成的孔中的搅拌器;以及从反应器的侧部向内延伸的溶剂传输线,其中,搅拌器包括:从反应器的上部垂直向下延伸的旋转轴;以及具有锥形的叶片,该叶片的顶点位于旋转轴的下端,该叶片的外径从底部朝向顶部增大,并且溶剂传输线具有在朝向叶片的方向上形成的多个喷嘴。

    用于制备低聚物的设备
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113474079B

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202080015199.9

    申请日:2020-11-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,该用于制备低聚物的设备包括:用于使包含所供应的单体的供给流低聚的反应器;插入到在反应器的上部中形成的孔中的搅拌器;以及从反应器的侧部向内延伸的溶剂传输线,其中,搅拌器包括:从反应器的上部垂直向下延伸的旋转轴;以及具有锥形的叶片,该叶片的顶点位于旋转轴的下端,该叶片的外径从底部朝向顶部增大,并且溶剂传输线具有在朝向叶片的方向上形成的多个喷嘴。

    用于制备低聚物的设备
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114555223A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202180005012.1

    申请日:2021-07-09

    Abstract: 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,更具体地,涉及一种用于制备低聚物的设备,包括:反应器,该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域,和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域;第二气体反应物入口和第三气体反应物入口,所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上,所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上;以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴,所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接,所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。

    用于制备低聚物的装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114364456A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202180005088.4

    申请日:2021-07-01

    Abstract: 本公开涉及一种用于制备低聚物的装置,包括:反应器,所述反应器被供应有用于进行低聚反应的单体流和溶剂流;产物排出管线,所述产物排出管线设置在所述反应器的侧面的下部;清洗液供应管线,所述清洗液供应管线与所述产物排出管线的第一点连接;以及清洗液排出管线,所述清洗液排出管线从所述产物排出管线的第二点伸出,其中,所述产物排出管线包括将所述产物排出管线分支为两条以上的管线的分支点和将各条分支的管线接合的接合点,并且所述产物排出管线包括在分支的所述两条以上的管线中的每一条管线中设置的压力控制装置。

Patent Agency Ranking